江蘇邑文微電子科技有限公司;無錫邑文微電子科技股份有限公司劉田鵬獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江蘇邑文微電子科技有限公司;無錫邑文微電子科技股份有限公司申請的專利一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120369608B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510885437.6，技術領域涉及：G01N19/04；該發明授權一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法是由劉田鵬;穆洪楊;季潤梅;郭琪設計研發完成，并于2025-06-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法在說明書摘要公布了：本發明屬于半導體材料制造技術領域，提供了一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法，所述方法包括以下步驟：提供腔壁上沉積有薄膜的PECVD腔體；對PECVD腔體進行第一抽真空處理，將PECVD腔體抽至第一壓力后將顆粒片傳入PECVD腔體中，通入穩定性氣體至第二壓力，開啟射頻對薄膜進行轟擊處理；對PECVD腔體進行第二抽真空處理，將PECVD腔體抽至第三壓力后將顆粒片傳出PECVD腔體，檢測顆粒片上的顆粒后值，判斷薄膜粘附性。本發明所述方法可快速評估PECVD腔壁薄膜的宏觀粘附穩定性，尤其適用于量產環境中的預防性維護，避免由于薄膜粘附性差造成的成膜品質過低的問題。
本發明授權一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法在權利要求書中公布了：1.一種檢測PECVD腔壁沉積薄膜粘附性的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟： 提供腔壁上沉積有薄膜的PECVD腔體； 測量顆粒片的顆粒前值； 對PECVD腔體進行第一抽真空處理，PECVD腔體抽至第一壓力后，將所述顆粒片傳入PECVD腔體，通入穩定性氣體至第二壓力，開啟射頻對薄膜進行轟擊處理； 對PECVD腔體進行第二抽真空處理，將PECVD腔體抽至第三壓力后將顆粒片傳出PECVD腔體，檢測顆粒片的顆粒后值，根據所述顆粒后值與所述顆粒前值判斷薄膜粘附性。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人江蘇邑文微電子科技有限公司;無錫邑文微電子科技股份有限公司，其通訊地址為：226400 江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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