東京應化工業株式會社松本直純獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京應化工業株式會社申請的專利正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112346302B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010770166.7,技術領域涉及:G03F7/039;該發明授權正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜是由松本直純設計研發完成,并于2020-08-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜在說明書摘要公布了:本發明涉及正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜。本發明的課題在于提供能夠形成截面形狀良好的經圖案化的抗蝕劑膜且敏感度高的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述正型感光性樹脂組合物形成的經圖案化的抗蝕劑膜。解決手段是在正型感光性樹脂組合物中包含:Novolac樹脂A;含有醌二疊氮基的化合物B;作為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物的敏化劑C;和規定范圍內的量的含有酚式羥基的樹脂D,其為Novolac樹脂A以外的重均分子量超過1000的樹脂。
本發明授權正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜在權利要求書中公布了:1.正型感光性樹脂組合物,其包含Novolac樹脂A、含有醌二疊氮基的化合物B、敏化劑C、和含有酚式羥基的樹脂D, 所述含有醌二疊氮基的化合物B組合包含下式B1表示的化合物、下式B2表示的化合物和下式B3表示的化合物, [化學式1] 式B1中,Rb1各自獨立地為碳原子數1以上且5以下的烷基,D各自獨立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,2+m個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,l及m各自獨立地為1或2, [化學式2] 式B2中,D各自獨立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,3個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基, [化學式3] 式B3中,Rb3各自獨立地為氫原子、或碳原子數1以上且6以下的烷基,Rb4各自獨立地為氫原子、鹵素原子、碳原子數1以上且6以下的烷基、碳原子數1以上且6以下的烷氧基、或碳原子數3以上且6以下的環烷基,D各自獨立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基,4個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基, 所述敏化劑C為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物, 所述含有酚式羥基的樹脂D為重均分子量為3000以上且15000以下的羥基苯乙烯的均聚物, 相對于所述Novolac樹脂A100質量份而言,所述含有酚式羥基的樹脂D的含量為0.5質量份以上且10質量份以下。
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