京東方科技集團(tuán)股份有限公司;京東方光科技有限公司;蘇州大學(xué)周云獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉京東方科技集團(tuán)股份有限公司;京東方光科技有限公司;蘇州大學(xué)申請(qǐng)的專利一種超寬帶吸收器及制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN113219568B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202110572266.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02B5/00;該發(fā)明授權(quán)一種超寬帶吸收器及制備方法是由周云;陸平英;孟德宇;陳華鋒;張恒;武榮風(fēng);詹智誠設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-05-25向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種超寬帶吸收器及制備方法在說明書摘要公布了:本申請(qǐng)涉及制備技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,公開了一種超寬帶吸收器及制備方法,該超寬帶吸收器包括基底,基底上設(shè)置有第一介質(zhì)層,第一介質(zhì)層背離基底的一側(cè)形成凸起結(jié)構(gòu)陣列,凸起結(jié)構(gòu)陣列背離所述基底的一側(cè)依次設(shè)置有第一金屬層、第二介質(zhì)層和第二金屬層。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)可見光至紅外波段超寬帶的雙向廣角高效吸收,在400nm?4000nm波段范圍內(nèi),電磁波吸收結(jié)構(gòu)上表面平均吸收效率大于92%,下表面平均吸收接近85%;角度寬容性大,在入射角為60°時(shí),仍能保持良好的雙向吸收性能,上表面平均吸收大于92%,下表面平均吸收大于80%。該裝置結(jié)構(gòu)簡單,便于大規(guī)模、批量化生產(chǎn),且易與光電子器件集成,在顯示、太陽能電池、熱光伏等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
本發(fā)明授權(quán)一種超寬帶吸收器及制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種超寬帶吸收器,其特征在于,包括基底,所述基底上設(shè)置有第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層背離所述基底的一側(cè)形成凸起結(jié)構(gòu)陣列,所述凸起結(jié)構(gòu)陣列背離所述基底的一側(cè)依次設(shè)置有第一金屬層、第二介質(zhì)層和第二金屬層; 相鄰兩所述凸起結(jié)構(gòu)陣列上的相鄰兩所述第二金屬層之間相互靠近的一面互相抵接; 所述凸起結(jié)構(gòu)的形狀為半橢球體、圓錐體、圓臺(tái)體、三棱錐體或四棱錐體; 在400nm-4000nm的波段范圍內(nèi),所述超寬帶吸收器上表面平均吸收效率為92%,下表面平均吸收率為81%。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人京東方科技集團(tuán)股份有限公司;京東方光科技有限公司;蘇州大學(xué),其通訊地址為:100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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