北京空間飛行器總體設計部馬炳獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京空間飛行器總體設計部申請的專利一種寬帶薄膜反射陣天線獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114094343B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111181830.5，技術領域涉及：H01Q15/16；該發明授權一種寬帶薄膜反射陣天線是由馬炳;魯帆;韓運忠;周懷安;薛欣;董楠;斯揚;馬超設計研發完成，并于2021-10-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種寬帶薄膜反射陣天線在說明書摘要公布了：本發明公開了一種寬帶薄膜反射陣天線。本發明寬帶薄膜反射陣天線由饋源和反射陣構成，其中反射陣由兩層薄膜組成，兩層薄膜間隔一定距離，均為拋物面或準拋物面；上層薄膜上表面附著金屬貼片單元，下層薄膜的上表面附著金屬地。本發明通過縮短饋源到反射陣單元之間的空間相移差，可大幅展寬天線帶寬，且具有帶寬寬、效率高和重量輕的優點，常規大口徑薄膜反射陣天線的帶寬不足5％，本發明的薄膜反射陣天線帶寬可以達到30％以上。本發明的薄膜反射陣天線效率可以達到60％以上，天線面密度不超過1kgm2，具有輕量化優點。
本發明授權一種寬帶薄膜反射陣天線在權利要求書中公布了：1.一種寬帶薄膜反射陣天線，包括饋源和反射陣，其特征在于，所述反射陣由兩層薄膜組成，兩層薄膜間隔一定距離，每層薄膜均分為若干塊；每塊薄膜均是平面，多個平面擬合成準拋物面；上層薄膜上表面附著金屬貼片單元，下層薄膜的上表面附著金屬地；所述薄膜包含1個正方形中心塊和4個圍繞在中心塊四周的梯形塊，擬合成準拋物面；超寬帶薄膜天線陣列的布局，包括5個子陣，中心子陣8和四周4個梯形子陣6、7、9、10；中心子陣8為正方形薄膜子陣，子陣上布有8×8組雙正方形環金屬貼片，貼片大小按照一定規律排布；四周4個梯形子陣6、7、9、10大小相同，與中心子陣8的相對傾斜角度相同，其上均布有120組雙正方形環金屬貼片，貼片大小按照一定規律排布；子陣6和子陣10的排布規律完全相同，子陣6、子陣7和子陣9的排布規律各不相同。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京空間飛行器總體設計部，其通訊地址為：100094 北京市海淀區友誼路104號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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