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龍圖騰網(wǎng)獲悉華虹半導體(無錫)有限公司申請的專利光學鄰近修正方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116125757B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310067085.4，技術(shù)領域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)光學鄰近修正方法是由鄧慧芳;江志興;范曉設計研發(fā)完成，并于2023-01-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本光學鄰近修正方法在說明書摘要公布了：一種光學鄰近修正方法，包括：提供目標圖形，所述目標圖形包括若干組同類型邊；將每組所述同類型邊進行分段處理，獲取若干分割段；調(diào)整每組所述同類型邊中各個所述分割段的控制點的位置參數(shù)、以及所述目標圖形各個拐角的半徑參數(shù)，建立原始參數(shù)矩陣；根據(jù)所述原始參數(shù)矩陣對所述目標圖形進行若干次光學鄰近修正，并獲取每次所述光學鄰近修正后的曝光圖形，并從若干所述曝光圖形中獲取最佳曝光圖形；獲取所述最佳曝光圖形對應的所述原始參數(shù)矩陣中最佳參數(shù)分配。在保證不擴大所述目標圖形的前提下，獲取所述最佳曝光圖形，進而有效避免短路風險，以及提高所述曝光圖形的面積，增加后續(xù)工藝的可靠性。

本發(fā)明授權(quán)光學鄰近修正方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供目標圖形，所述目標圖形包括若干組同類型邊； 將每組所述同類型邊進行分段處理，獲取若干分割段； 調(diào)整每組所述同類型邊中各個所述分割段的控制點的位置參數(shù)、以及所述目標圖形各個拐角的半徑參數(shù)，建立原始參數(shù)矩陣； 根據(jù)所述原始參數(shù)矩陣對所述目標圖形進行若干次光學鄰近修正，并獲取每次所述光學鄰近修正后的曝光圖形，并從若干所述曝光圖形中獲取最佳曝光圖形； 獲取所述最佳曝光圖形對應的所述原始參數(shù)矩陣中最佳參數(shù)分配。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華虹半導體(無錫)有限公司，其通訊地址為：214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)新洲路30號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。