蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司劉曉寧獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司申請的專利具有抗復印特性的光學成像薄膜及其制備方法和防偽產品獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119148401B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310705884.X，技術領域涉及：G02B30/27；該發明授權具有抗復印特性的光學成像薄膜及其制備方法和防偽產品是由劉曉寧;楊穎;朱鳴;喬文;魏國軍;張國勇;任家安;張瑾;陳林森設計研發完成，并于2023-06-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本具有抗復印特性的光學成像薄膜及其制備方法和防偽產品在說明書摘要公布了：本發明涉及一種具有抗復印特性的光學成像薄膜及其制備方法和防偽產品。光學成像薄膜包括：透明間隔層，具有相對的兩個表面；微聚焦單元陣列層，位于透明間隔層的一個表面，包括若干陣列排布的微聚焦單元；以及微圖文層，位于透明間隔層的另一個表面，包括若干陣列排布的微圖文單元，若干微圖文單元與若干微聚焦單元對應設置；微圖文單元的正視圖形基于立體實物像和虛擬像獲得，從而在特定視角范圍內只呈現部分立體實物像，立體實物像被虛擬像遮擋的部分不顯示。本發明的抗復印光學成像薄膜，在特定視角范圍內只呈現部分立體實物像，立體實物像被虛擬像遮擋的部分不顯示，因而能夠使復印圖像無法攜帶光學成像薄膜全部信息，從而實現抗復印功能。
本發明授權具有抗復印特性的光學成像薄膜及其制備方法和防偽產品在權利要求書中公布了：1.一種具有抗復印特性的光學成像薄膜，其特征在于，所述光學成像薄膜包括： 透明間隔層，所述透明間隔層具有相對的兩個表面； 微聚焦單元陣列層，位于所述透明間隔層的一個表面，所述微聚焦單元陣列層包括若干陣列排布的微聚焦單元；以及 微圖文層，位于所述透明間隔層的另一個表面，所述微圖文層包括若干陣列排布的微圖文單元，若干所述微圖文單元與若干所述微聚焦單元對應設置； 其中，所述微圖文單元的正視圖形基于立體實物像和虛擬像獲得，從而在特定視角范圍內只呈現部分立體實物像，所述立體實物像被虛擬像遮擋的部分不顯示。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司，其通訊地址為：215123 江蘇省蘇州市工業園區新昌路68號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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