北京航空航天大學許小劍獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京航空航天大學申請的專利雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118746817B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411057919.4，技術領域涉及：G01S7/41；該發明授權雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法是由許小劍;劉天金設計研發完成，并于2024-08-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法在說明書摘要公布了：本發明公開了雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法，包括以下步驟：目標濾波逆投影二維成像，對特定散射體位置參數的檢測和識別；對特定散射體二維檢測與區域分割；特定散射體區域內目標散射判斷；特定散射體回波數據重構；特定散射體回波數據矢量相減處理；獲取隨頻率和方位變化的目標散射回波數據，從而對特定散射體回波數據的精確提取和抑制處理。在目標整機或者目標部件雷達散射截面RCS測量中，本發明采用上述的雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法，無需目標幾何模型輔助，能夠對混入目標散射回波的目標支架以及載體等特定散射體的回波信號實現有效抑制，減小了背景雜波影響，提高了RCS測量精度。
本發明授權雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法在權利要求書中公布了：1.雷達散射截面測量中抑制特定散射體回波的二維處理方法，其特征在于，包括以下步驟： S1、目標濾波逆投影二維成像； S2、特定散射體二維檢測與區域分割； S3、特定散射體區域內目標散射判斷； S4、特定散射體回波數據重構； S5、特定散射體回波數據矢量相減處理； S6、獲取隨頻率和方位變化的目標散射回波數據； 所述特定散射體是指位于目標區且對散射測量回波具有貢獻的散射結構，包括用于目標整機測量中的目標支架和用于目標部件測量的載體； 步驟S1中，所述目標濾波逆投影二維成像具體為： 對目標作360°全方位旋轉測量，獲得隨頻率和方位角變化的散射回波幅度和相位原始測量數據，通過濾波逆投影實現目標二維逆合成孔徑ISAR成像； 其中，濾波逆投影成像算法的表達式為： 式中，PθLe為目標測量值所獲取的高分辨率距離像HRRP，Δθ為目標方位旋轉角度，k＝2πλ為波數向量，Le為目標成像積分軌跡。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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