應用材料公司任河獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉應用材料公司申請的專利減低互連介電阻擋堆疊中陷阱引發的電容的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115274549B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210402704.6，技術領域涉及：H01L21/768；該發明授權減低互連介電阻擋堆疊中陷阱引發的電容的方法是由任河;梅裕爾·B·奈克;曹勇;程亞娜;葉偉鋒設計研發完成，并于2016-06-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本減低互連介電阻擋堆疊中陷阱引發的電容的方法在說明書摘要公布了：本公開內容提供一種在基板上形成的互連及在基板上形成互連的方法。在一個實施方式中，在基板上形成互連的方法包括以下步驟：將阻擋層沉積在基板上，將過渡層沉積在阻擋層上，及將蝕刻停止層沉積在過渡層上，其中該過渡層與該阻擋層共有共同元素，且其中該過渡層與該蝕刻停止層共有共同元素。
本發明授權減低互連介電阻擋堆疊中陷阱引發的電容的方法在權利要求書中公布了：1.一種在基板上形成互連的方法，所述方法包括以下步驟： 將連續的阻擋層沉積在所述基板上； 將蝕刻停止層沉積在所述阻擋層上；和 處理所述阻擋層和所述蝕刻停止層之間的界面，使得所述阻擋層和所述蝕刻停止層共有共同元素，處理所述界面的步驟包括： 在包含氫氣H2的第一處理氣體中退火所述界面； 在包含氫氣H2和氮氣N2的第二處理氣體中退火所述界面；和 將所述界面暴露至基于氫的等離子體處理。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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