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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利等離子體處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN112599399B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202011023223.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)等離子體處理裝置是由佐佐木良設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-09-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本等離子體處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及等離子體處理裝置。提供用于避免由蓋環(huán)的損耗引起的工藝變化的技術(shù)。一個例示的實施方式的等離子體處理裝置具備載置臺、聚焦環(huán)、蓋環(huán)、導(dǎo)電性環(huán)以及高頻電源。聚焦環(huán)載置于載置臺，具有導(dǎo)電性。導(dǎo)電性環(huán)載置于蓋環(huán)。位于聚焦環(huán)的外周的第1側(cè)面和位于導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周的第2側(cè)面彼此相對并分離開。

本發(fā)明授權(quán)等離子體處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種等離子體處理裝置，其中， 該等離子體處理裝置具有： 載置臺，其具有用于載置基板的基板載置部和包圍所述基板載置部的周緣部； 聚焦環(huán)，其載置于所述載置臺的所述周緣部，具有導(dǎo)電性； 蓋環(huán)，其包圍所述載置臺的外周，由電介質(zhì)構(gòu)成； 導(dǎo)電性環(huán)，其載置于所述蓋環(huán)；以及 高頻電源，其與所述載置臺結(jié)合起來， 其中，位于所述聚焦環(huán)的外周部的第1面和位于所述導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周部的第2面彼此相對并分離開， 所述蓋環(huán)具有使所述聚焦環(huán)和所述導(dǎo)電性環(huán)分離開的分離部， 所述第1面是所述聚焦環(huán)的外周部下表面，所述第2面是所述導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周部上表面， 所述聚焦環(huán)的外周部側(cè)面和所述導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周部側(cè)面彼此相對并分離開， 所述導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周部上表面的與所述聚焦環(huán)的外周部下表面相對的面積比所述導(dǎo)電性環(huán)的內(nèi)周部側(cè)面的與所述聚焦環(huán)的外周部側(cè)面相對的面積大。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。