因林光電科技(蘇州)有限公司吳猛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉因林光電科技(蘇州)有限公司申請的專利一種分布式反饋激光器及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114709714B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110992976.1，技術領域涉及：H01S5/12；該發明授權一種分布式反饋激光器及其制備方法是由吳猛;周雄;劉朝明設計研發完成，并于2021-08-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種分布式反饋激光器及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種分布式反饋激光器及其制備方法，激光器包括：激光器外延結構，激光器外延結構包括襯底以及位于襯底一側的多層外延層；位于外延層遠離襯底一側的第一電極層；其中，多層外延層包括至少一個光柵共振腔結構，光柵共振腔結構包括依次沿第一方向設置的第一光柵結構、共振腔結構和第二光柵結構；第一光柵結構和第二光柵結構的光柵周期與共振腔結構的光柵周期不同，且第一光柵結構、共振腔結構和第二光柵結構只有一個公共激射模式；位于襯底遠離外延層一側的第二電極層。本發明有效減少光柵制備數目，降低光柵制備精度要求，降低器件制備難度和制備成本，同時降低器件的光損耗，提高光耦合效率抑制多模激射，顯著提升器件的應用性能。
本發明授權一種分布式反饋激光器及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種分布式反饋激光器，其特征在于，包括： 激光器外延結構，所述激光器外延結構包括襯底以及位于所述襯底一側的多層外延層； 位于所述外延層遠離所述襯底一側的第一電極層；其中，多層所述外延層包括至少一個光柵共振腔結構，所述光柵共振腔結構包括依次沿第一方向設置的第一光柵結構、共振腔結構和第二光柵結構；所述第一光柵結構和所述第二光柵結構的光柵周期與所述共振腔結構的光柵周期不同，且所述第一光柵結構、所述共振腔結構和所述第二光柵結構只有一個公共激射模式；所述第一方向與所述襯底所在平面平行； 位于所述襯底遠離所述外延層一側的第二電極層。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人因林光電科技(蘇州)有限公司，其通訊地址為：215002 江蘇省蘇州市蘇州高新區科技城五臺山路588號2號廠房101；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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