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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國科學(xué)院大學(xué);中國科學(xué)院高能物理研究所申請的專利一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法及裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116124809B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111339773.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N23/207；該發(fā)明授權(quán)一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法及裝置是由易棲如;張杰設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-11-12向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法及裝置在說明書摘要公布了：本申請涉及一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法及裝置，屬于材料取向和應(yīng)變分布測量技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有測量技術(shù)對平板樣品造成不可逆的損傷的技術(shù)問題。該方法包括：確定平板多晶樣品的檢測區(qū)域；對檢測區(qū)域進(jìn)行X射線衍射，獲取檢測區(qū)域在不同旋轉(zhuǎn)角下的衍射圖像和衍射斑對應(yīng)的布拉格角；根據(jù)布拉格角，確定衍射斑對應(yīng)的晶面類型和晶面法向量；根據(jù)衍射圖像，確定衍射斑的衍射斑參數(shù)；根據(jù)旋轉(zhuǎn)角、晶面類型、衍射斑參數(shù)和先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，分別重構(gòu)各晶粒的晶粒形貌，先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)包括晶粒各晶面對應(yīng)的衍射投影數(shù)據(jù)以及晶粒的晶胞參數(shù)。本申請?zhí)峁┑募夹g(shù)方案不需要從平板多晶樣品上取樣，就能得到檢測區(qū)域的晶粒形貌，從而避免對平板多晶樣品造成損傷。

本發(fā)明授權(quán)一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法及裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種平板多晶樣品晶粒形貌重構(gòu)方法，其特征在于，包括： 確定平板多晶樣品的檢測區(qū)域； 對所述檢測區(qū)域進(jìn)行X射線衍射，獲取所述檢測區(qū)域在不同旋轉(zhuǎn)角下的衍射圖像和衍射斑對應(yīng)的布拉格角； 根據(jù)所述布拉格角，確定衍射斑對應(yīng)的晶面類型和晶面法向量； 根據(jù)所述衍射圖像，確定所述衍射斑的衍射斑參數(shù)； 根據(jù)所述旋轉(zhuǎn)角、所述晶面類型、所述晶面法向量、所述衍射斑參數(shù)和先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，分別重構(gòu)各晶粒的晶粒形貌，所述先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)包括晶粒各晶面對應(yīng)的衍射投影數(shù)據(jù)以及晶粒的晶胞參數(shù)； 其中，所述根據(jù)所述旋轉(zhuǎn)角、所述晶面類型、所述晶面法向量、所述衍射斑參數(shù)和先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，分別重構(gòu)各晶粒的晶粒形貌，包括： 根據(jù)所述先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)和所述晶面類型，確定晶粒的軸角； 根據(jù)所述晶面類型、所述晶面法向量、所述軸角和所述旋轉(zhuǎn)角，確定屬于同一晶粒的衍射斑； 根據(jù)所述先驗(yàn)晶粒結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)以及所述屬于同一晶粒的衍射斑對應(yīng)的衍射斑參數(shù)和晶面類型，重構(gòu)相應(yīng)晶粒形貌； 所述根據(jù)所述晶面類型、所述晶面法向量、所述軸角和所述旋轉(zhuǎn)角，確定屬于同一晶粒的衍射斑，還包括： 根據(jù)不同的旋轉(zhuǎn)角，分別確定第一衍射斑和第二衍射斑，以及所述第一衍射斑對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)角和所述第二衍射斑對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)角的差值；所述第一衍射斑對應(yīng)第一晶面，所述第二衍射斑對應(yīng)第二晶面； 根據(jù)所述第一晶面的晶面類型和所述第二晶面的晶面類型，所述第一晶面和所述第二晶面的軸角； 利用下述公式分別計(jì)算目標(biāo)晶面法向量： ； 用于表征平板多晶樣品的旋轉(zhuǎn)軸的單位向量，用于所述第一晶面的晶面法向量或所述第二晶面的晶面法向量，ω用于表征所述第一衍射斑對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)角和所述第二衍射斑對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)角的差值，用于表征所述目標(biāo)晶面法向量，所述目標(biāo)晶面法向量為所述第一晶面旋轉(zhuǎn)ω后的晶面法向量或所述第二晶面旋轉(zhuǎn)ω后的晶面法向量； 當(dāng)所述目標(biāo)法向量對應(yīng)所述第一晶面時，所述晶面法向量和所述第二晶面的晶面法向量的夾角與所述軸角相匹配時，確定所述第一晶面和所述第二晶面屬于同一個晶粒；當(dāng)所述目標(biāo)法向量對應(yīng)所述第二晶面時，所述晶面法向量和所述第一晶面的晶面法向量的夾角與所述軸角相匹配時，確定所述第一晶面和所述第二晶面屬于同一個晶粒。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人中國科學(xué)院大學(xué);中國科學(xué)院高能物理研究所，其通訊地址為：100049 北京市石景山區(qū)玉泉路（甲）19號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。