買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉中山大學(xué)申請(qǐng)的專利基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114743214B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210287731.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06V40/10；該發(fā)明授權(quán)基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法是由謝曉華;莊梓煜;賴劍煌設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-03-23向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法，通過特殊的遮擋生成器生成帶有遮擋的圖片，在訓(xùn)練階段前景生成特征加強(qiáng)模塊利用生成的偽前景對(duì)之前的特征進(jìn)行加強(qiáng)，偽前景二進(jìn)制交叉熵?fù)p失在訓(xùn)練的時(shí)候?qū)ι傻膫涡腥饲熬斑M(jìn)行監(jiān)督，在測(cè)試階段，噪聲通道丟棄方法進(jìn)一步減少遮擋對(duì)最終度量距離計(jì)算的影響，提高識(shí)別的精度。

本發(fā)明授權(quán)基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于特征加強(qiáng)和噪聲通道去除的遮擋行人重識(shí)別方法，包括訓(xùn)練階段和測(cè)試階段，其特征在于：所述訓(xùn)練階段步驟如下： 步驟一：開始，輸入原始圖片； 步驟二：數(shù)據(jù)擴(kuò)增，通過遮擋生成器對(duì)原始圖片進(jìn)行數(shù)據(jù)擴(kuò)增； 步驟三：將數(shù)據(jù)擴(kuò)增后的圖片輸入到網(wǎng)絡(luò)； 步驟四：進(jìn)行損失計(jì)算、向后傳播，將輸入到網(wǎng)絡(luò)的圖片通過前景生成特征加強(qiáng)模塊進(jìn)行損失計(jì)算，同時(shí)將損失計(jì)算后的圖片向后繼續(xù)傳播； 步驟五：將傳播后的圖片進(jìn)行迭代，在達(dá)到要求迭代次數(shù)后輸出； 所述訓(xùn)練階段步驟四中所述前景生成特征加強(qiáng)模塊，其工作步驟如下： 107給定原始圖片I，利用Resnet50作為基本的網(wǎng)絡(luò)骨架，通過偽前景生成模塊生成行人偽前景PF； 108用偽前景PF乘以所述網(wǎng)絡(luò)骨架第三層的特征圖，再往后傳播； 109用前景熱圖H對(duì)特征圖進(jìn)行加權(quán)得到特征向量； 110使用行人身份分類損失和三元組損失對(duì)這個(gè)特征向量進(jìn)行監(jiān)督； 所述測(cè)試階段步驟如下： 步驟一：開始，輸入原始圖片； 步驟二：將原始圖片輸入到網(wǎng)絡(luò)； 步驟三：特征提取，對(duì)輸入的圖片與搜索的圖片進(jìn)行特征提取； 步驟四：通道丟棄精練特征，通過噪聲通道丟棄方法，得到最終精煉的特征； 步驟五：度量距離計(jì)算，用得到的兩個(gè)最終精煉的特征計(jì)算余弦度量距離； 所述測(cè)試階段步驟四中所述噪聲通道丟棄方法是根據(jù)提取的特征向量計(jì)算得到通道掩模，通道掩模對(duì)特征通道進(jìn)行丟棄，得到最終精煉的特征，再用兩個(gè)特征計(jì)算余弦度量距離，其具體步驟如下： 114得到查詢圖片Iq和待搜索圖片Ig，通過網(wǎng)絡(luò)的前向過程得到查詢圖片和待搜索圖片各自的特征向量fq和fg； 115使用了特征向量的平均值的一定比例作為閾值，將特征向量二值化后生成僅包含0和1的掩模，查詢圖片的特征向量和待搜索圖片的特征向量相應(yīng)的掩模，分別記為maskq和maskg； 116根據(jù)mask對(duì)特征向量fq和fg進(jìn)行精煉，丟棄帶有噪聲的通道,mask由maskq和maskg生成，如公式所示：mask＝maskq*maskg； 117根據(jù)精煉的特征計(jì)算余弦度量距離。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中山大學(xué)，其通訊地址為：510275 廣東省廣州市海珠區(qū)新港西路135號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。