臺灣積體電路制造股份有限公司張世明獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利用于選擇光刻工藝的方法和半導體處理系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114967361B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210470277.5，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于選擇光刻工藝的方法和半導體處理系統是由張世明;謝艮軒;沈育佃設計研發完成，并于2022-04-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于選擇光刻工藝的方法和半導體處理系統在說明書摘要公布了：一種半導體處理系統包括第一光刻系統和第二光刻系統。半導體處理系統包括布局數據庫，其存儲表示要在晶圓中形成的特征的多個布局。半導體處理系統包括布局分析器，其分析布局并基于布局中特征的尺寸選擇第一光刻系統或第二光刻系統。
本發明授權用于選擇光刻工藝的方法和半導體處理系統在權利要求書中公布了：1.一種用于選擇光刻工藝的方法，包括： 存儲與用于晶圓的布局相關的布局數據； 從所述布局中提取表示與所述布局的特征相關的尺寸的特征數據； 將所述特征數據與選擇規則進行比較；以及 基于所述特征數據和所述選擇規則，在用于所述布局的EUV光刻工藝和非EUV光刻工藝之間進行選擇，其中，所述特征數據包括表示與所述布局的所述特征相關的節距的尺寸的節距數據，所述選擇規則數據包括閾值節距值和閾值百分比值，其中，所述選擇規則表示如果所述節距小于所述閾值節距值的百分比小于所述閾值百分比值，則使用所述EUV光刻工藝。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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