杭州福斯特電子材料有限公司李志強獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杭州福斯特電子材料有限公司申請的專利一種抗蝕劑組合物及其層壓體獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115047714B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210650770.5,技術領域涉及:G03F7/027;該發明授權一種抗蝕劑組合物及其層壓體是由李志強;李偉杰;詹志英;吳強設計研發完成,并于2022-06-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種抗蝕劑組合物及其層壓體在說明書摘要公布了:發明涉及一種抗蝕劑組合物及其層壓體,屬于電路印刷元件的制備技術領域。抗蝕劑組合物,包含如下質量份的原料:堿溶性樹脂50~65份、光聚合性單體30~45份、光引發劑0.5~5.0份、納米二氧化硅,以堿溶性樹脂和光聚合性單體總質量份為100計,添加量為0~0.1質量份。相比于現有技術,本申請所述的抗蝕劑組合物在顯影時,顯影液泡沫高度更低;由其形成的層壓體,流膠傾向性更小,具有更好的儲存穩定性。
本發明授權一種抗蝕劑組合物及其層壓體在權利要求書中公布了:1.抗蝕劑組合物,包括堿溶性樹脂、光聚合性單體和光引發劑,其特征在于:還包括納米二氧化硅,所述納米二氧化硅,以堿溶性樹脂和光聚合性單體總質量份為100計,添加量在0.1質量份以內;所述堿溶性樹脂為含羧基的乙烯基類樹脂,由至少一種不飽和羧酸與至少一種乙烯基化合物共聚而得;所述光聚合單體,選自壬基苯酚甲基丙烯酸酯、乙氧化丙氧化壬基苯酚甲基丙烯酸酯、雙酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧化丙氧化雙酚A二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙氧化丙氧化三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇-丙二醇二甲基丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯低聚物中的一種或多種。
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