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龍圖騰網獲悉電子科技大學申請的專利一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115392343B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210837855.4，技術領域涉及：G06F18/241；該發明授權一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法是由周紀;金子純;馬晉;丁利榮;楊曉杰設計研發完成，并于2022-07-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法，屬于氣溶膠光學厚度填補技術領域。本發明將靜止軌道衛星氣溶膠光學厚度產品分解為線性分量和非線性分量，其中線性分量的求解思想是求解再分析資料與衛星反演氣溶膠光學厚度產品在不同地表覆蓋類型上的線性關系，并基于該線性關系對再分析資料進行校正；將校正后的線性分量與衛星氣溶膠光學厚度作差，得到有效觀測像元的非線性分量，利用機器學習模型去映射非線性分量與影響因子之間的相關關系，并將該關系用于非有效觀測像元，獲取空間無縫的非線性分量；最后將線性分量與非線性分量疊加，得到空間無縫的氣溶膠光學厚度。

本發明授權一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法在權利要求書中公布了：1.一種高時間分辨率空間無縫氣溶膠光學厚度填補方法，其特征在于，包括下列步驟： 步驟1，在低空間分辨率下訓練氣溶膠光學厚度影響因子與氣溶膠光學厚度的回歸模型： 其中，表示回歸模型擬合得到的低空間分辨率氣溶膠光學厚度，kernellow表示低空間分辨率氣溶膠光學厚度影響因子，f表示低空間分辨率下各輸入變量的降尺度映射關系； 定義低分辨率下原始氣溶膠光學厚度與回歸模型擬合得到的氣溶膠光學厚度間的殘差ΔAODlow為：其中，AODlow表示低分辨率的原始氣溶膠光學厚度； 將低空間分辨率下訓練好的回歸模型應用于高空間分辨率，得到預測的高分辨率氣溶膠光學厚度結果其中，kernelhigh表示高空間分辨率的氣溶膠光學厚度影響因子； 將ΔAODlow通過雙線性方法采樣到高空間分辨率，得到高空間分辨率殘差ΔAODhigh； 根據公式得到單個降尺度模型結果AODhigh； 步驟2，線性分量估算： 基于最小二乘法擬合再分析資料氣溶膠光學厚度與衛星氣溶膠光學厚度間的線性關系：AODLC,i＝Ai·AODmerra2,i+Bi； 其中，AODLC,i表示某地表覆蓋類型上的線性分量，Ai、Bi分別為某地表覆蓋類型上擬合得到線性關系的斜率和截距，AODmerra2,i表示某地表覆蓋類型上的再分析資料氣溶膠光學厚度；i表示不同的地表覆蓋類型； 步驟3，非線性分量估算： 利用機器學習算法對非線性分量及其影響因子之間的關系進行映射，得到非缺失值像元處的映射關系：AODNC-clr,j＝RFjΦ+εj，其中，Φ表示非線性分量的影響因子，j表示不同地方時，εj表示地方時為j時的殘差，RFj表示非線性分量及其影響因子之間的映射關系； 根據公式AODNC-gap-filled,j＝RFjΦ+εj計算地方時j時缺失像元處的氣溶膠光學厚度非線性分量的預測值AODNC-gap-filled,j； 步驟4，疊加估算的線性分量和非線性分量，得到空間無縫氣溶膠光學厚度估算： AODNC-gap-filled,j＝Ai·AODmerra2,i+Bi+RFjΦ+εj 其中，AODNC-gap-filled,j表示填補后氣溶膠光學厚度，從而獲得填補后的高時間分辨率、空間無縫氣溶膠光學厚度。

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