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龍圖騰網獲悉華中科技大學申請的專利一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115631237B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211267909.4，技術領域涉及：G06T7/73；該發明授權一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法及系統是由何玉明;韓世豪;雷劍;胡軼宇設計研發完成，并于2022-10-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法及系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法及系統，屬于工程測量領域。包括獲取同一位置同一待測物體變形前后的兩幅圖像，在兩幅圖像中隨機選取一個分析區域；對兩個分析區域內像素點的灰度值進行快速傅里葉變換，得到表示待測物體變形前后的第一和第二變換結果；對第一變換結果施加增量形式的形函數，與第二變換結果相減并與自身共軛相乘后求和得到第一函數，將修改后的第一變換結果所對應的空域圖像進行一階泰勒展開后帶入第一函數，得到增量變形向量；多次重復直至前后兩次計算所得的增量變形向量中所有量之差小于容許閾值為止。本發明所提出的技術方案在對存在應變影響下的位移場計算結果中，計算結果更準確，測量范圍更廣。

本發明授權一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種高精度應變模式頻域數字圖像位移場測量方法，其特征在于，包括以下步驟： S1.獲取同一位置同一待測物體變形前后的兩幅圖像，在所述兩幅圖像中待測物體相同部分的區域內分別隨機選取一個分析區域； S2.對所述兩個分析區域內像素點的灰度值進行快速傅里葉變換，得到表示待測物體變形前的第一變換結果和表示物體變形后的第二變換結果；第一變換結果F和第二變換結果G具體表達形式如下： 其中，x和y分別是全局的圖像坐標，為變形前圖像中分析區域的灰度矩陣，記為參考圖像，為變形后圖像中分析區域的灰度矩陣，記作目標圖像，為變形函數，與為分析區域的局部坐標，為變形向量，u和v分別是其傅里葉變換后的坐標，M是所選取分析區域的像素值； S3.對所述第一變換結果施加增量形式的形函數，所述修改后的第一變換結果與第二變換結果相減并與自身共軛相乘后求和得到第一函數W，將修改后的第一變換結果所對應的空域圖像進行一階泰勒展開后帶入第一函數W，得到增量變形向量； S4.多次重復步驟S3直至前后兩次計算所得的增量變形向量中所有量之差小于容許閾值為止。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華中科技大學，其通訊地址為：430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。