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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京化工大學(xué);中國航天科技創(chuàng)新研究院申請的專利一種光固化耐高溫低介電材料及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118516032B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410628769.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09D163/10；該發(fā)明授權(quán)一種光固化耐高溫低介電材料及其制備方法是由馬貴平;李夢竹;孔婭;張春陽;遲百宏;王鵬飛;陸寬設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-05-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種光固化耐高溫低介電材料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種光固化耐高溫低介電材料及其制備方法，涉及介電材料技術(shù)領(lǐng)域。該光固化耐高溫低介電材料的原料包括耐高溫光敏樹脂100份，聚乙烯基咔唑修飾的POSS10～30份，光引發(fā)劑1～3份，光穩(wěn)定劑0.1～0.5份。本發(fā)明的光固化耐高溫低介電材料各材料的相互協(xié)同作用，固化后涂層有良好的力學(xué)性能、附著力好，介電常數(shù)低于2.25，能夠承受高達350℃以上的高溫且能夠在200℃的高溫下長期使用，可以滿足一些對耐高溫低介電等要求高的場合，如電子電氣、航空航天、醫(yī)療機械等特定領(lǐng)域。

本發(fā)明授權(quán)一種光固化耐高溫低介電材料及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光固化耐高溫低介電材料，其特征在于，所述光固化耐高溫低介電材料的原料按重量份數(shù)計，包括： 耐高溫光敏樹脂100份 聚乙烯基咔唑修飾的POSS10～30份 光引發(fā)劑1～3份 光穩(wěn)定劑0.1～0.5份； 所述耐高溫光敏樹脂的原料包括：有機硅改性環(huán)氧丙烯酸酯樹脂和丙烯酸酯單體稀釋劑； 所述的丙烯酸酯單體稀釋劑包括丙烯酰胺嗎啉和三環(huán)癸烷二甲醇二丙烯酸酯； 所述聚乙烯基咔唑修飾的POSS采用如下方法制備： 將POSS在甲苯中超聲分散1.5～2h，得分散液，向含有POSS的分散液中加入聚乙烯基咔唑，繼續(xù)超聲分散3～5h，離心后烘干，得到聚乙烯基咔唑修飾的POSS； 所述光引發(fā)劑包括自由基光引發(fā)劑與陽離子光引發(fā)劑。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京化工大學(xué);中國航天科技創(chuàng)新研究院，其通訊地址為：100029 北京市朝陽區(qū)北三環(huán)東路15號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。