昆山科比精工設備有限公司王萬生獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉昆山科比精工設備有限公司申請的專利一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120376473B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510867949.X,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置是由王萬生設計研發完成,并于2025-06-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置在說明書摘要公布了:本發明提供一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置,用于解決現有技術在硅片鍍銅前處理環節的轉運過程中,面臨氧化控制、潔凈度維持和表面完整性的三大技術挑戰,嚴重影響硅片成膜的表面質量,難以滿足集成電路的先進制程需求的問題。為本發明提供一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置,包括:機架、預清洗腔、真空過渡腔、惰性氣體緩沖腔、密封鍍銅線和硅片循環傳送機構。通過預清洗腔到惰性氣體緩沖腔,再到真空過渡腔的三級密封腔體結構,以物理隔離的方式,大大縮短了硅片在空氣中的暴露時間,防止硅片在鍍銅前發生氧化,保證硅片成膜的表面質量;通過使硅片載具與下料導向載架交叉不接觸,向密封鍍銅線內下料,非接觸式傳送硅片,防止晶格損傷。
本發明授權一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置在權利要求書中公布了:1.一種硅片鍍銅前處理用轉運裝置,其特征在于,包括: 機架1,所述機架1的左部安裝有預清洗腔2和真空過渡腔4,所述預清洗腔2和真空過渡腔4間設置有惰性氣體緩沖腔3,所述機架1的上部安裝有密封鍍銅線5,且預清洗腔2、惰性氣體緩沖腔3、真空過渡腔4和密封鍍銅線5固定連通,所述預清洗腔2、惰性氣體緩沖腔3和真空過渡腔4間安裝有硅片循環傳送機構6; 其中,所述預清洗腔2用于使化學藥液去除硅片表面的顆粒雜質; 其中,所述惰性氣體緩沖腔3用于在硅片自預清洗腔2出來后,控制硅片所處空間的氧氣濃度,減少單硅片的暴露時間和暴露程度; 其中,所述真空過渡腔4用于為硅片傳送提供真空空間; 其中,所述密封鍍銅線5用于對硅片進行鍍銅處理; 其中,所述硅片循環傳送機構6用于裝載硅片,并帶動硅片在預清洗腔2、惰性氣體緩沖腔3和真空過渡腔4間流轉,后將硅片傳送到密封鍍銅線5內; 所述預清洗腔2包括前清洗腔201、后清洗傳送腔202和第一傳送導軌槽203,所述機架1的左端上壁安裝有前清洗腔201和后清洗傳送腔202,且前清洗腔201和后清洗傳送腔202呈前后固定相接,所述前清洗腔201和后清洗傳送腔202的相接壁上開設有第一傳送導軌槽203; 所述惰性氣體緩沖腔3包括前氣體緩沖腔301、后緩沖傳送腔302和第二傳送導軌槽303,所述前清洗腔201和后清洗傳送腔202的上部分別固定安裝有前氣體緩沖腔301和后緩沖傳送腔302,且前氣體緩沖腔301和后緩沖傳送腔302呈前后固定相接,所述前氣體緩沖腔301和后緩沖傳送腔302的相接壁上開設有第二傳送導軌槽303; 所述真空過渡腔4包括前過渡腔401、后過渡傳送腔402和第三傳送導軌槽403,所述前氣體緩沖腔301和后緩沖傳送腔302的右壁固定連通有前過渡腔401和后過渡傳送腔402,且前過渡腔401和后過渡傳送腔402的右部固定設置在機架1上,所述前過渡腔401和后過渡傳送腔402的相接壁上開設有第三傳送導軌槽403; 所述硅片循環傳送機構6包括定位基板601、上料載臺602、輔助傳送帶603、主動鏈輪604、從動鏈條605、定向滑塊606、硅片載具607、卡銷608和下料導向載架609,所述前清洗腔201的右壁下部與前過渡腔401的左壁下部間固定有定位基板601,所述定位基板601的上部固定有上料載臺602,所述上料載臺602內傳動安裝有輔助傳送帶603,所述后清洗傳送腔202的左下角、后緩沖傳送腔302的左上角、后過渡傳送腔402的右上角和下部分別轉動安裝有一個主動鏈輪604,四個所述主動鏈輪604間鏈傳動套接有從動鏈條605,所述從動鏈條605上通過十五根卡銷608等距安裝有十五個定向滑塊606,十五個所述定向滑塊606均滑動安裝在所述第一傳送導軌槽203、第二傳送導軌槽303和第三傳送導軌槽403內,十五個所述定向滑塊606的前壁安裝有硅片載具607,且硅片載具607內自輔助傳送帶603上部傳過時被機械手裝載有硅片,所述前過渡腔401的前壁內側與密封鍍銅線5的上料端前壁內側間固定有下料導向載架609,且十五個硅片載具607的運動路線與下料導向載架609的左端相交,下料導向載架609間歇與硅片載具607交叉,但不接觸。
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