萬華化學集團電子材料有限公司王慶偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉萬華化學集團電子材料有限公司申請的專利一種拋光組合物及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120383884B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510874713.9,技術領域涉及:C09G1/02;該發明授權一種拋光組合物及其制備方法和應用是由王慶偉;崔兆強;徐賀;常雪設計研發完成,并于2025-06-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種拋光組合物及其制備方法和應用在說明書摘要公布了:本發明涉及化學機械拋光技術領域,具體涉及一種拋光組合物及其制備方法和應用,包括如下步驟:將二氧化硅水溶膠、氨基酸或其鹽與含有第一基團的硅烷偶聯劑混合,得到分散液;所述第一基團選自含硫基團、環氧基、異氰酸基、酰氧基中的一種或者多種;將分散液與氧化劑混合,在溫度為40℃?70℃的條件下進行加熱處理,得到改性二氧化硅水溶膠;將改性二氧化硅水溶膠、陰離子水溶性聚合物、有機堿和水混合,制得拋光組合物。通過使用上述特定方法得到的改性二氧化硅水溶膠與陰離子水溶性聚合物、有機堿和水混合后制得的拋光組合物,可以極大程度降低拋光后硅片表面的DCN缺陷。
本發明授權一種拋光組合物及其制備方法和應用在權利要求書中公布了:1.一種硅片拋光組合物的制備方法,其特征在于,包括如下步驟: S1步驟:將二氧化硅水溶膠、氨基酸或其鹽與含有第一基團的硅烷偶聯劑混合,得到分散液;所述第一基團為巰基基團; S2步驟:將分散液與氧化劑混合,在溫度為40℃-70℃的條件下進行加熱處理,得到改性二氧化硅水溶膠; S3步驟:將改性二氧化硅水溶膠、陰離子水溶性聚合物、有機堿和水混合,制得硅片拋光組合物。
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