買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120491314B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510965330.2，技術領域涉及：G02B27/00；該發明授權一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法是由劉銘鑫;郭佳健;張新;史廣維;吳洪波;趙尚男設計研發完成，并于2025-07-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及光線追跡技術領域，具體提供一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法，首先，明確雙折射介質參數和入射光參數，其次，迭代計算入射光入射雙折射介質后產生的透射光及反射光的波矢和折射率，然后利用奇異值分解計算透射光和反射光的偏振態，進一步計算透射光和反射光的傳播方向、菲涅爾振幅系數、透射率和反射率，最終計算獲得入射光的傳播過程和光程，完成光線追跡。本發明方法能準確在雙折射介質中對非序列偏振光線進行追跡，通用性強，追跡結果準確率高。

本發明授權一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法在權利要求書中公布了：1.一種在雙折射介質中非序列偏振光線追跡的方法，其特征在于，包括： S1：依據雙折射介質參數和入射光參數，迭代計算所述入射光入射雙折射介質后產生的透射光及反射光的波矢和折射率； 所述迭代計算過程為： S1.1：選擇折射率作為初始估計值，其中，為待計算光線所在介質的x軸主介電常數； S1.2：計算偏向常數； S1.3：依據所述偏向常數，計算全局坐標系下的波矢； S1.4：計算全局坐標系下的波矢在晶體光軸局部坐標系下的投影； S1.5：構造關于的一元二次方程； S1.6：解出的新值，取正數； S1.7：重復步驟S1.2~步驟S1.6，直到收斂，當折射率穩定到以內，則認為收斂； S2：利用奇異值分解計算所述透射光和反射光的偏振態； S3：計算所述透射光和反射光的傳播方向； S4：計算透射光和反射光的菲涅爾振幅系數，計算透射率或反射率； S5：計算所述入射光的傳播過程和光程。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，其通訊地址為：130033 吉林省長春市經濟技術開發區東南湖大路3888號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。