深圳眾誠達應用材料股份有限公司周賢界獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉深圳眾誠達應用材料股份有限公司申請的專利一種RPD鍍膜陶瓷靶材及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120504536B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202511003257.7,技術領域涉及:C04B35/01;該發明授權一種RPD鍍膜陶瓷靶材及其制備方法是由周賢界;徐紅星;盧曉鵬;關澤漢;劉杰;張志強;黃小玲;黃勇彪設計研發完成,并于2025-07-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種RPD鍍膜陶瓷靶材及其制備方法在說明書摘要公布了:本申請涉及靶材制備技術領域,提供了一種RPD鍍膜陶瓷靶材及其制備方法。RPD鍍膜陶瓷靶材包括用于蒸發鍍膜的實心圓柱形靶材主體,靶材主體包括:靶芯,由第一陶瓷粉體制成;靶套,包圍在靶芯的四周,靶套由第二陶瓷粉體制成,靶芯材料的蒸發率或升華率低于靶套材料的蒸發率或升華率。本申請靶材通過特殊結構設計,避免靶材外周燒滯殘留或燒偏,促進均勻蒸發或升華,從而提高薄膜質量,同時減少殘粉或殘片掉落在坩堝內或坩堝與靶材主體間的縫隙中,減少開腔更換坩堝和卡靶開腔維護的頻率,延長連續鍍膜時間。此外還包括靶管,靶管套設在靶材主體的四周,用于阻擋Ar+等離子體飛濺到坩堝壁上,以防止坩堝材料蒸發,降低雜質引入風險。
本發明授權一種RPD鍍膜陶瓷靶材及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種RPD鍍膜陶瓷靶材,其特征在于,所述RPD鍍膜陶瓷靶材包括用于蒸發鍍膜的實心圓柱形靶材主體,所述靶材主體包括: 靶芯,由第一陶瓷粉體制成; 靶套,包圍在所述靶芯的四周,所述靶套由第二陶瓷粉體制成; 其中,所述靶芯材料的蒸發率低于所述靶套材料的蒸發率,或者所述靶芯材料的升華率低于所述靶套材料的升華率; 所述第一陶瓷粉體包括質量比為(50~100)∶(0~50)的第一氧化物粉和摻雜氧化物粉; 所述摻雜氧化物粉由所述第一氧化物粉和第二氧化物粉混合后煅燒而成,且所述第一氧化物粉和所述第二氧化物粉不同; 所述第一氧化物粉包括氧化銦粉、氧化鋅粉、氧化錫粉中的至少一種; 所述第二氧化物粉包括氧化銦粉、氧化錫粉、氧化鎢粉、氧化鋁粉、氧化鎵粉、氧化鋯粉、氧化釔粉、氧化鉭粉、氧化鈮粉、氧化銻粉、氧化銅粉、氧化鈰粉、氧化鑭粉、氧化鈧粉、氧化硅粉、氧化鉬粉以及氧化鉿粉中的至少一種; 所述第二陶瓷粉體包括質量比為(60~100)∶(0~40)的所述第一氧化物粉和所述摻雜氧化物粉。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人深圳眾誠達應用材料股份有限公司,其通訊地址為:518128 廣東省深圳市寶安區新安街道海濱社區寶興路6號海納百川總部大廈A座5層;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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