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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所申請(qǐng)的專(zhuān)利一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120522968B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202511030620.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/38；該發(fā)明授權(quán)一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)是由葛超洋;翟培卓;李金航;彭洪;李燕妃;謝儒彬;洪根深設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-07-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)。包括：二次曝光區(qū)，所述二次曝光區(qū)分布于單塊掩模版的上側(cè)、下側(cè)、左側(cè)和右側(cè)；該金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)位于所述二次曝光區(qū)內(nèi)，用于形成兩個(gè)相鄰光刻場(chǎng)之間的跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)；且每條所述金屬互連掩模版的其中部分區(qū)域比目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀對(duì)應(yīng)的區(qū)域大，剩余的其他部分區(qū)域的形狀為目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀。本發(fā)明消除了二次曝光導(dǎo)致跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)形貌惡化和互連質(zhì)量降低的問(wèn)題。

本發(fā)明授權(quán)一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種用于制造跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)的金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括二次曝光區(qū)，所述二次曝光區(qū)分布于單塊掩模版的上側(cè)、下側(cè)、左側(cè)和右側(cè)；該金屬互連掩模版結(jié)構(gòu)位于所述二次曝光區(qū)內(nèi)，用于形成兩個(gè)相鄰光刻場(chǎng)之間的跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)；且每條所述金屬互連掩模版的其中部分區(qū)域比目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀對(duì)應(yīng)的區(qū)域大，剩余的其他部分區(qū)域的形狀為目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀； 將二次曝光區(qū)跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)掩模版平移重合時(shí)，相交形狀為目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀，并集的形狀完全將目標(biāo)金屬互連線(xiàn)形狀包含在內(nèi)，在兩次曝光過(guò)程中，每條跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)對(duì)應(yīng)光刻膠位于二次曝光區(qū)中的側(cè)邊均只被曝光一次； 所述跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)位于所述二次曝光區(qū)中，具有幾何形狀； 位于左側(cè)和右側(cè)所述二次曝光區(qū)中的所述跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)，其左端邊緣與所述二次曝光區(qū)的左邊緣接觸，其右端邊緣與所述二次曝光區(qū)的右邊緣接觸，以用于連接左右兩個(gè)相鄰的光刻場(chǎng)； 位于上側(cè)和下側(cè)所述二次曝光區(qū)中的所述跨光刻場(chǎng)金屬互連線(xiàn)，其上端邊緣與所述二次曝光區(qū)的上邊緣接觸，其下端邊緣與所述二次曝光區(qū)的下邊緣接觸，以用于連接上下兩個(gè)相鄰的光刻場(chǎng)。

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