ASML控股股份有限公司;ASML荷蘭有限公司V·A·佩雷斯-福爾肯獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML控股股份有限公司;ASML荷蘭有限公司申請的專利光刻設備和靜電夾具設計獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114586139B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080072366.3,技術領域涉及:H01L21/683;該發明授權光刻設備和靜電夾具設計是由V·A·佩雷斯-福爾肯;M·A·范德柯克霍夫;D·L·哈勒;C·J·馬森;亞瑟·溫弗里德·愛德華達斯·明內爾特;J·H·J·莫爾斯;S·A·內菲設計研發完成,并于2020-10-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本光刻設備和靜電夾具設計在說明書摘要公布了:本文的實施例描述了用于使用增強式靜電夾具減小夾具?掩模版界面處的電場的方法、裝置和系統。具體地,所述靜電夾具包括夾具本體、設置在所述夾具本體的頂表面上的電極層以及從所述夾具本體的底表面突出的多個突節,其中所述電極層包括預定位置處的多個切口,所述預定位置豎直地對應于所述夾具本體的所述頂表面處的所述多個突節的位置。
本發明授權光刻設備和靜電夾具設計在權利要求書中公布了:1.一種靜電夾具,包括: 夾具本體; 電極層,被設置在所述夾具本體的頂表面上;以及 多個突節,從所述夾具本體的底表面突出, 其中所述電極層包括預定位置處的多個切口,所述預定位置豎直地對應于所述夾具本體的所述底表面處的所述多個突節的位置,所述多個切口包括至少第一切口和第二切口,所述第一切口具有第一直徑,所述第二切口具有第二直徑,第二直徑與第一直徑不同,以及 其中所述第一直徑和第二直徑被配置成在預定位置處以減小多個突節周圍產生的電場。
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