蘇州旭創科技有限公司鄭學哲獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉蘇州旭創科技有限公司申請的專利光耦合結構及其制備方法、光學組件獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115524785B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110714031.3，技術領域涉及：G02B6/12；該發明授權光耦合結構及其制備方法、光學組件是由鄭學哲;杜寅超設計研發完成，并于2021-06-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本光耦合結構及其制備方法、光學組件在說明書摘要公布了：本公開涉及一種光耦合結構及其制備方法、光學組件。所述光耦合結構包括層疊設置的光導向層和光準直層。光導向層包括：第一基層、以及設置于第一基層的背離光準直層的表面上的導向凸塊。導向凸塊具有光耦合面和全反射面；其中，光耦合面垂直于第一基層的背離光準直層的表面，全反射面與光耦合面相對、且與第一基層呈角度設置。所述光耦合結構能夠解決邊緣出光型光學器件與平面型光學器件之間耦合封裝難的問題，從而有利于在大規模的光電混合集成中實現邊緣出光型光學器件與平面型光學器件之間的高效耦合。
本發明授權光耦合結構及其制備方法、光學組件在權利要求書中公布了：1.一種光耦合結構，其特征在于，包括：層疊設置的光導向層和光準直層； 所述光導向層包括：第一基層、以及設置于所述第一基層的背離所述光準直層的表面上的導向凸塊；所述導向凸塊具有光耦合面和全反射面； 其中，所述光耦合面垂直于所述第一基層的背離所述光準直層的表面； 所述全反射面與所述光耦合面相對，且與所述第一基層呈角度設置； 所述全反射面被配置為：將所述光耦合面耦入的光信號全反射至所述光準直層，以通過所述光準直層準直或匯聚所述光信號；或，將所述光準直層準直或匯聚的光信號全反射至所述光耦合面，以通過所述光耦合面耦出； 其中，所述光準直層包括： 第二基層；所述第二基層位于所述第一基層的背離所述導向凸塊的表面； 和，微透鏡或其陣列；所述微透鏡或其陣列設置于所述第二基層上。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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