中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司杜杳雋獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利光學鄰近修正方法及掩膜版獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115729028B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111001006.7，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學鄰近修正方法及掩膜版是由杜杳雋設計研發完成，并于2021-08-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鄰近修正方法及掩膜版在說明書摘要公布了：光學鄰近修正方法及掩膜版，方法包括：提供原始版圖圖形；獲取原始版圖圖形的邊緣輪廓；將原始版圖圖形的邊緣輪廓分割成多個分段；以第一窗口為單位分割原始版圖圖形；以第一窗口為窗口內區創建第二窗口；第二窗口包括第一窗口的窗口外區，第一窗口與第二窗口共中心；基于分段的邊緣放置誤差受相鄰分段的修正量的影響的信息，對窗口內外區的分段的邊緣放置誤差執行加速迭代計算，修正原始版圖圖形，獲取目標版圖圖形。因在修正原始版圖圖形時，基于分段的邊緣放置誤差受相鄰分段的修正量的影響的信息進行，即考慮到相鄰分段之間的關聯效應，使得所確定的每個分段的修正量具有較高的精度。
本發明授權光學鄰近修正方法及掩膜版在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供原始版圖圖形； 獲取所述原始版圖圖形的邊緣輪廓； 將所述原始版圖圖形的邊緣輪廓分割成多個分段； 以第一窗口為單位分割所述原始版圖圖形； 以所述第一窗口為窗口內區創建第二窗口；所述第二窗口還包括所述第一窗口的窗口外區，所述第一窗口與所述第二窗口共中心； 基于對應的第二窗口內每個分段的邊緣放置誤差受相鄰分段的修正量的影響的信息，對各個第一窗口內的分段的邊緣放置誤差執行加速迭代計算，修正所述原始版圖圖形，獲取目標版圖圖形。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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