買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網獲悉中國人民解放軍火箭軍工程大學申請的專利一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114676386B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202210186844.4，技術領域涉及：G06F17/18；該發(fā)明授權一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法是由楊志勇;蔡偉;張志偉;張志利;羅李娜;張明娣設計研發(fā)完成，并于2022-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法，包括利用微面元理論，設定物體表面由多個微面元構成，每個微面元由靠近入射光的第一照射面和遠離入射光的第二照射面構成；基于第一、二照射面與入射光和反射光的幾何關系，采用法向量夾角概率模型，獲得建修正后的幾何衰減因子以獲得入射光的遮擋概率，將修正后的幾何衰減因子代入二向反射分布函數(shù)得到反射光的輻射能量，以探測物體的形貌。該方法能夠獲得準確的、合理的幾何衰減因子，從而能夠準確分析目標偏振特性，有利于增強偏振探測的效果。

本發(fā)明授權一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法在權利要求書中公布了：1.一種基于光學微面元理論幾何衰減因子修正方法，其特征在于，包括： 利用微面元理論，設定物體表面由多個微面元構成，每個微面元由靠近入射光的第一照射面和遠離入射光的第二照射面構成； 基于第一照射面與入射光的幾何關系，采用法向量夾角概率模型，分別得到入射光完全通過第一照射面的概率，入射光未通過第一照射面的概率，入射光部分通過第一照射面的概率； 基于入射光完全通過第一照射面后完全通過、完全遮蔽或部分通過第二照射面得到第一乘積概率； 入射光完全通過第一照射面后形成第一反射光，基于第一反射光與第二照射面的幾何關系，采用法向量夾角概率模型，分別得到第一反射光完全通過第二照射面的概率，第一反射光經第二照射面后向反射的概率；將第一反射光完全通過第二照射面和經第二照射面后向反射的概率和，與入射光完全通過第一照射面的概率進行乘積得到第二乘積概率； 基于入射光部分通過第一照射面后形成第二反射光，基于第二反射光與第二照射面的幾何關系，采用法向量夾角概率模型，分別構建第二反射光經第二照射面前向反射的概率，第二反射光經第二照射面后向反射的概率；將第二反射光經第二照射面前向、后向反射的概率和，與入射光部分通過第一照射面的概率進行乘積得到第三乘積概率； 基于入射光未通過第一照射面的概率，以及第一、二、三乘積概率構建修正后的幾何衰減因子，以獲得入射光的遮擋概率，將修正后的幾何衰減因子代入二向反射分布函數(shù)計算物體反射光的輻射能量，以探測物體的形貌。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人中國人民解放軍火箭軍工程大學，其通訊地址為：710025 陜西省西安市灞橋區(qū)洪慶鎮(zhèn)同心路2號；或者聯(lián)系龍圖騰網官方客服，聯(lián)系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。