上海恩捷新材料科技有限公司莊志獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海恩捷新材料科技有限公司申請的專利一種陣列基膜、電池集流體、電池極片、電池及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115440990B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211245525.2,技術領域涉及:H01M4/66;該發明授權一種陣列基膜、電池集流體、電池極片、電池及其制備方法是由莊志;郭桂略;蔡裕宏;劉洋;虞少波;程躍設計研發完成,并于2022-10-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種陣列基膜、電池集流體、電池極片、電池及其制備方法在說明書摘要公布了:本申請提供一種陣列基膜、電池集流體、電池極片、電池及其制備方法,屬于柔性電子元器件領域。陣列基膜包括呈陣列分布的多個第一區域以及與第一區域交替分布的第二區域,第一區域包括有機聚合物層,第二區域包括有機聚合物層以及位于有機聚合物層表面和內部的導電金屬,通過該陣列基膜,能夠在一定程度上解決柔性導電薄膜與極耳焊接困難以及焊接不良等問題,從而有效降低極耳與極片間的電阻。
本發明授權一種陣列基膜、電池集流體、電池極片、電池及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種電池集流體,其特征在于,包括: 非金屬導電層;以及 陣列基膜,所述陣列基膜包括呈陣列分布的多個第一區域以及與所述第一區域交替分布的第二區域,所述第一區域包括有機聚合物層,所述第二區域包括有機聚合物層以及位于所述有機聚合物層表面和內部的導電金屬; 在所述陣列基膜的厚度方向上,所述非金屬導電層位于所述第一區域的一側或兩側,漏出的所述第二區域為所述電池集流體的焊接區。
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