上海頻準(zhǔn)激光科技有限公司潘偉巍獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海頻準(zhǔn)激光科技有限公司申請(qǐng)的專利交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng)及方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115857087B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202211410127.1,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02B6/02;該發(fā)明授權(quán)交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng)及方法是由潘偉巍;董金巖;張磊設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-11-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng)及方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng)及方法,用于在待刻寫保偏光纖上同時(shí)刻寫中心波長(zhǎng)匹配的高反光柵和低反光柵,該刻寫系統(tǒng)包括沿出光方向依次設(shè)置的光源和相位掩模板,通過在相位掩模板上設(shè)置不同周期的慢軸匹配區(qū)域和快軸匹配區(qū)域,配合由交叉對(duì)準(zhǔn)的第一光纖段和第二光纖段組成的待刻寫保偏光纖,第一光纖段與慢軸匹配區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置,第二光纖段與快軸匹配區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置,實(shí)現(xiàn)在待刻寫保偏光纖上同時(shí)刻寫中心波長(zhǎng)匹配的高反光柵和低反光柵,從而擺脫不確定性對(duì)光柵中心波長(zhǎng)的影響,提高了良品率,降低了光纖光柵對(duì)的生產(chǎn)難度。
本發(fā)明授權(quán)交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng)及方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種交叉對(duì)準(zhǔn)光纖光柵對(duì)的波長(zhǎng)自匹配刻寫系統(tǒng),用于在待刻寫保偏光纖上同時(shí)刻寫中心波長(zhǎng)匹配的高反光柵和低反光柵,其特征在于,所述刻寫系統(tǒng)包括沿出光方向依次設(shè)置的光源和相位掩模板; 所述光源用于沿所述出光方向提供工作用激光; 所述相位掩模板用于衍射所述激光,形成±1級(jí)衍射輸出,并抑制0級(jí)衍射,所述相位掩模板包括沿第一方向依次設(shè)置的慢軸匹配區(qū)域和快軸匹配區(qū)域,所述慢軸匹配區(qū)域具有第一周期,所述快軸匹配區(qū)域具有第二周期,所述第一周期不同于所述第二周期,所述第一方向垂直于所述出光方向; 所述待刻寫保偏光纖沿第一方向延伸,所述待刻寫保偏光纖包括第一光纖段和第二光纖段,所述第一光纖段和所述第二光纖段快慢軸交叉對(duì)準(zhǔn),所述第一光纖段與所述慢軸匹配區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置,所述第二光纖段與所述快軸匹配區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置; 其中,刻寫的高反光柵和低反光柵的中心波長(zhǎng)為目標(biāo)波長(zhǎng),所述第一光纖段對(duì)應(yīng)目標(biāo)波長(zhǎng)的折射率為第一折射率,所述第二光纖段對(duì)應(yīng)目標(biāo)波長(zhǎng)的折射率為第二折射率,第一折射率與第一周期的乘積、第二折射率與第二周期的乘積均等于目標(biāo)波長(zhǎng)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人上海頻準(zhǔn)激光科技有限公司,其通訊地址為:201800 上海市嘉定區(qū)徐行鎮(zhèn)徐潘路1918號(hào)2幢2層D區(qū);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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