中國航空制造技術研究院邢一思獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國航空制造技術研究院申請的專利一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116275127B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310000986.1，技術領域涉及：B22F12/00；該發明授權一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置是由邢一思;李懷學;胡全棟;徐明設計研發完成，并于2023-01-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置，包括沿激光光路依次分布的二極管激光陣列勻質光單元、光尋址光閥成像單元和光源偏轉成像單元；其中，二極管激光陣列勻質光單元用于發射多組激光并將其勻化成面光源，光尋址光閥成像單元用于將面光源分為S偏振光、P偏振光，光源偏轉成像單元用于動態調整S偏振光的投影位置以擴大激光選區熔化的成形區域。該基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置的目的是解決基于面曝光的激光選區熔化成形由于面光源曝光范圍限制而不能滿足大尺寸零件成形的問題。
本發明授權一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置在權利要求書中公布了：1.一種基于動態面曝光的激光選區熔化成形裝置，其特征在于，包括沿激光光路依次分布的二極管激光陣列勻質光單元1、光尋址光閥成像單元2和光源偏轉成像單元3；其中， 所述二極管激光陣列勻質光單元1用于發射多組激光并將其勻化成面光源，所述光尋址光閥成像單元2用于將所述面光源分為S偏振光、P偏振光，所述光源偏轉成像單元3用于動態調整所述P偏振光的投影位置以擴大激光選區熔化的成形區域、成形大尺寸零件； 所述光源偏轉成像單元3包括投影透鏡系統13、反射鏡14及成形平臺18，所述投影透鏡系統13用于增加面光源投影面的光程長度，所述反射鏡14用于將所述面光源反射至所述成形平臺18上放置的待熔融粉末； 所述光源偏轉成像單元3還包括X軸調整鏡片15及Y軸調整鏡片16，所述反射鏡14用于將所述面光源反射至所述X軸調整鏡片15的中心位置，所述X軸調整鏡片15用于圍繞Y軸方向振動以調整所述面光源投影到成形倉時在X軸方向的位置，所述Y軸調整鏡片16用于圍繞X軸方向振動以調整所述面光源投影到成形倉時在Y軸方向的位置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國航空制造技術研究院，其通訊地址為：100024 北京市朝陽區八里橋北東軍莊1號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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