聯(lián)華電子股份有限公司楊柏宇獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉聯(lián)華電子股份有限公司申請(qǐng)的專利高電子遷移率晶體管及其制作方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114628511B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202011457077.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D30/47;該發(fā)明授權(quán)高電子遷移率晶體管及其制作方法是由楊柏宇設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2020-12-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本高電子遷移率晶體管及其制作方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)一種高電子遷移率晶體管及其制作方法,其中該高電子遷移率晶體管包含一第一III?V族化合物層,一第二III?V族化合物層設(shè)置于第一III?V族化合物層上,第二III?V族化合物層的組成與第一III?V族化合物層不同,一第三III?V族化合物層設(shè)置于第二III?V族化合物層上,其中第一III?V族化合物層和第三III?V族化合物層由相同的第III族和第V族元素組成,第三III?V族化合物層包含一本體和多個(gè)指狀部位,其中各個(gè)指狀部位和本體相連,各個(gè)指狀部位彼此平行且彼此不接觸,一源極電極設(shè)置在本體的一側(cè)并且接觸第一III?V族化合物層,一漏極電極設(shè)置在本體的另一側(cè)并且接觸第一III?V族化合物層,一柵極電極設(shè)置在本體的正上方。
本發(fā)明授權(quán)高電子遷移率晶體管及其制作方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種高電子遷移率晶體管,其特征在于,包含: 第一III-V族化合物層; 第二III-V族化合物層,設(shè)置于該第一III-V族化合物層上,該第二III-V族化合物層的組成與該第一III-V族化合物層不同; 第三III-V族化合物層,設(shè)置于該第二III-V族化合物層上,該第三III-V族化合物層包含一本體和多個(gè)指狀部位,其中該多個(gè)指狀部位和該本體相連,各該指狀部位彼此平行且彼此不接觸; 源極電極,設(shè)置在該本體的一側(cè)并且接觸該第一III-V族化合物層,其中該本體為具有P型摻質(zhì)的III-V族化合物層,并且該多個(gè)指狀部位為未摻雜的III-V族化合物層; 漏極電極,設(shè)置在該本體的另一側(cè)并且接觸該第一III-V族化合物層;以及 柵極電極,設(shè)置在該本體的正上方,其中該柵極電極不接觸該第二III-V族化合物層。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人聯(lián)華電子股份有限公司,其通訊地址為:中國(guó)臺(tái)灣新竹市;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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