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龍圖騰網(wǎng)獲悉富士膠片株式會(huì)社;國(guó)立大學(xué)法人東京大學(xué)申請(qǐng)的專利標(biāo)準(zhǔn)試樣膜、標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的制造方法、標(biāo)準(zhǔn)試樣、試樣組、定量分析方法、轉(zhuǎn)印薄膜獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115053130B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180012994.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N27/626；該發(fā)明授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)試樣膜、標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的制造方法、標(biāo)準(zhǔn)試樣、試樣組、定量分析方法、轉(zhuǎn)印薄膜是由椙山卓郎;寺尾祐子;平兮康彥;大塚徹郎;杉島明典;白石康晴;平田岳史;槙納好岐設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-01-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本標(biāo)準(zhǔn)試樣膜、標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的制造方法、標(biāo)準(zhǔn)試樣、試樣組、定量分析方法、轉(zhuǎn)印薄膜在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種標(biāo)準(zhǔn)試樣膜、標(biāo)準(zhǔn)試樣、標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的制造方法、試樣組、定量分析方法及轉(zhuǎn)印薄膜，所述標(biāo)準(zhǔn)試樣膜用于激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜法，其含有有機(jī)物，且基于測(cè)定位置的金屬元素的離子的信號(hào)強(qiáng)度的偏差小。本發(fā)明的標(biāo)準(zhǔn)試樣膜用于激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜法，所述標(biāo)準(zhǔn)試樣膜含有聚合物及金屬元素，且標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的膜厚的最大高低差為0.50μm以下。

本發(fā)明授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)試樣膜、標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的制造方法、標(biāo)準(zhǔn)試樣、試樣組、定量分析方法、轉(zhuǎn)印薄膜在權(quán)利要求書中公布了：1.一種標(biāo)準(zhǔn)試樣膜，其用于激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜法，其中， 所述標(biāo)準(zhǔn)試樣膜含有聚合物及金屬元素， 所述標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的膜厚的最大高低差為0.50μm以下， 所述標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的膜厚的最大高低差通過(guò)以下方法來(lái)測(cè)定： 使用探針式膜厚測(cè)定機(jī)，計(jì)算出標(biāo)準(zhǔn)試樣膜的膜厚，測(cè)定距離為3mm，掃描速度為0.02mmsec，將第1次進(jìn)行測(cè)定的3mm的直線作為掃描線1，在與掃描線1垂直相交的方向上隔開(kāi)0.2mm以上的距離的部位進(jìn)行第2次測(cè)定， 以下，重復(fù)相同的測(cè)定，合計(jì)進(jìn)行10次測(cè)定，進(jìn)行10次測(cè)定即掃描，求出各掃描中的膜厚的最大值及最小值，將通過(guò)10次掃描而得到的10個(gè)最大值中最大的值A(chǔ)與通過(guò)10次掃描而得到的10個(gè)最小值中最小的值B的差分值A(chǔ)-值B作為膜厚的最大高低差。

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