東京毅力科創(chuàng)株式會社河村浩司獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利等離子體處理裝置和構件溫度判定方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113299530B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202110172174.6，技術領域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權等離子體處理裝置和構件溫度判定方法是由河村浩司設計研發(fā)完成，并于2021-02-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本等離子體處理裝置和構件溫度判定方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種等離子體處理裝置和構件溫度判定方法，高精度地判定處理容器內的構件的溫度是否飽和。等離子體處理裝置具有處理容器和電極，該等離子體處理裝置還具有：預處理部，其構成為執(zhí)行使等離子體點火來使處理容器內的構件的溫度上升的預處理；功率施加部，其構成為在執(zhí)行預處理后，以不使等離子體點火的方式向電極施加RF功率；測定部，其構成為測定與通過功率施加部施加的RF功率有關的物理量；以及判定部，其構成為基于通過測定部測定出的與RF功率有關的物理量，來判定處理容器內的構件的溫度是否飽和。
本發(fā)明授權等離子體處理裝置和構件溫度判定方法在權利要求書中公布了：1.一種等離子體處理裝置，具有處理容器和電極，所述等離子體處理裝置還具有： 預處理部，其構成為執(zhí)行使等離子體點火來使所述處理容器內的構件的溫度上升的預處理； 功率施加部，其構成為在執(zhí)行所述預處理后以不使等離子體點火的方式向所述電極施加射頻功率； 測定部，其構成為測定與通過所述功率施加部施加的所述射頻功率有關的物理量；以及 判定部，其構成為基于通過所述測定部測定出的與所述射頻功率有關的物理量來判定所述處理容器內的構件的溫度是否飽和， 與所述射頻功率有關的物理量為以下物理量中的至少任一個物理量：射頻電壓、射頻電流、射頻功率與射頻電流的相位差、阻抗、從尚未執(zhí)行所述預處理的初始狀態(tài)起的射頻電壓的變化量、從尚未執(zhí)行所述預處理的初始狀態(tài)起的射頻電流的變化量、從尚未執(zhí)行所述預處理的初始狀態(tài)起的射頻功率與射頻電流的相位差的變化量、以及從尚未執(zhí)行所述預處理的初始狀態(tài)起的阻抗的變化量。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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