聯華電子股份有限公司郭致瑋獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉聯華電子股份有限公司申請的專利存儲裝置以及其制作方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115472737B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110651873.9,技術領域涉及:H10B63/00;該發明授權存儲裝置以及其制作方法是由郭致瑋;邱崇益設計研發完成,并于2021-06-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本存儲裝置以及其制作方法在說明書摘要公布了:本發明公開一種存儲裝置以及其制作方法,其中該存儲裝置包括基底、存儲單元以及第一間隙壁層。存儲單元設置在基底上,且存儲單元包括第一電極、第二電極以及存儲材料層。第二電極在垂直方向上設置在第一電極之上,且存儲材料層在垂直方向上設置在第一電極與第二電極之間。第一間隙壁層設置在存儲單元的側壁上。第一間隙壁層包括第一部分與第二部分。第一部分設置在第一電極的側壁上,第二部分設置在第二電極的側壁上,且第二部分在水平方向上的厚度大于第一部分在水平方向上的厚度。
本發明授權存儲裝置以及其制作方法在權利要求書中公布了:1.一種存儲裝置,包括: 基底; 存儲單元,設置在該基底上,其中該存儲單元包括: 第一電極; 第二電極,在垂直方向上設置在該第一電極之上;以及 存儲材料層,在該垂直方向上設置在該第一電極與該第二電極之間;以及 第一間隙壁層,設置在該存儲單元的側壁上,其中該第一間隙壁層包括: 第一部分,設置在該第一電極的側壁上;以及 第二部分,設置在該第二電極的側壁上,其中該第二部分在水平方向上的厚度大于該第一部分在該水平方向上的厚度,其中該第二電極在該水平方向上被該第一間隙壁層的該第二部分完全覆蓋。
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