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龍圖騰網(wǎng)獲悉華為技術(shù)有限公司申請的專利全息光致聚合物材料、全息光學(xué)元件、光學(xué)裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116003693B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111228367.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C08F263/04；該發(fā)明授權(quán)全息光致聚合物材料、全息光學(xué)元件、光學(xué)裝置是由彭海炎;王丹;解孝林;周興平;倪名立;郭紅喜;喻寒琛設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-10-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本全息光致聚合物材料、全息光學(xué)元件、光學(xué)裝置在說明書摘要公布了：本申請涉及全息技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種全息光致聚合物材料、全息光學(xué)元件、光學(xué)裝置。所述全息光致聚合物材料的原料包括基質(zhì)聚合物和光聚合單體，所述光聚合單體包括可通過光聚合反應(yīng)形成光聚合物的第一烯烴單體和第二烯烴單體，其中，所述第一烯烴單體的結(jié)構(gòu)如式1所示，所述第二烯烴單體的結(jié)構(gòu)如式2所示，式1中，R1、R2中的至少一個含有羥基和或氨基；式2中，R3、R4各自獨(dú)立地選自氫原子或原子團(tuán)，R3、R4不同時(shí)為氫原子；所述光聚合物的折射率高于所述基質(zhì)聚合物的折射率。本申請?zhí)峁┑娜⒐庵戮酆衔锊牧现频玫娜⒐鈱W(xué)元件，衍射效率大于80％，且在可見光波段400～800nm透光率大于80％。

本發(fā)明授權(quán)全息光致聚合物材料、全息光學(xué)元件、光學(xué)裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種全息光致聚合物材料，其特征在于，所述全息光致聚合物材料的原料包括基質(zhì)聚合物和光聚合單體，所述光聚合單體包括可通過光聚合反應(yīng)形成光聚合物的第一烯烴單體和第二烯烴單體，其中，所述第一烯烴單體的結(jié)構(gòu)如式1所示， 式1中，所述R1選自氫原子或甲基，所述R2選自羥基、氨基、-OCH2nOH、-OCH2nNH2，其中，n為1至6的整數(shù)； 所述第二烯烴單體選自如下結(jié)構(gòu)中的至少一種： 所述光聚合物的折射率高于所述基質(zhì)聚合物的折射率； 所述光聚合單體中，羥基、氨基的總摩爾量與烯烴官能團(tuán)的摩爾量之比為0.05:1～0.6:1； 所述第一烯烴單體和所述第二烯烴單體的摩爾比為0.05:1～1.5:1； 以所述基質(zhì)聚合物與所述光聚合單體的總重量份數(shù)為100份計(jì)，所述基質(zhì)聚合物的重量份數(shù)為20～80份，所述光聚合單體的重量份數(shù)為20～80份。

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