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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社日本顯示器申請的專利蒸鍍掩模的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116103708B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211373669.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D1/10；該發(fā)明授權(quán)蒸鍍掩模的制造方法是由福田加一設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-11-03向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本蒸鍍掩模的制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，提供能夠使開口區(qū)域的位置精度提高的蒸鍍掩模的制造方法。蒸鍍掩模的制造方法中，在支承基板上隔著基底金屬層形成具有規(guī)定的圖案的光致抗蝕劑層，以支承基板的第一面與水平面垂直的方式配置支承基板，測量支承基板的第一翹曲量，在基底金屬層中的沒有形成光致抗蝕劑層的區(qū)域，通過電鑄使金屬析出而形成掩模主體，以支承基板的第一面與水平面垂直的方式配置支承基板，測量支承基板的第二翹曲量，根據(jù)基于第一翹曲量和第二翹曲量計算的翹曲量的變化量與基于翹曲量的變化量計算的支承基板的內(nèi)部應(yīng)力，計算掩模主體的收縮率。

本發(fā)明授權(quán)蒸鍍掩模的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種蒸鍍掩模的制造方法，其特征在于： 在支承基板上隔著基底金屬層形成具有規(guī)定的圖案的光致抗蝕劑層， 以所述支承基板的第一面與水平面垂直的方式配置所述支承基板，測量所述支承基板的第一翹曲量， 在所述基底金屬層中的沒有形成所述光致抗蝕劑層的區(qū)域，通過電鑄使金屬析出而形成掩模主體， 以所述支承基板的第一面與水平面垂直的方式配置所述支承基板，測量所述支承基板的第二翹曲量， 根據(jù)基于所述第一翹曲量和所述第二翹曲量計算的翹曲量的變化量與基于所述翹曲量的變化量計算的所述支承基板的內(nèi)部應(yīng)力，計算所述掩模主體的收縮率， 在所述掩模主體的收縮率小于規(guī)定的范圍的下限值且為第一閾值以上的情況下，或者在所述掩模主體的收縮率大于規(guī)定的范圍的上限值且為第二閾值以下的情況下，與所述掩模主體的收縮率相應(yīng)地，改變接下來要制造的掩模主體的所述規(guī)定的圖案各自的描畫坐標。

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