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龍圖騰網(wǎng)獲悉南京工業(yè)大學(xué)申請的專利一種微爆粉碎法制備CeO₂超小介孔膜的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118846822B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410752159.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B01D67/00；該發(fā)明授權(quán)一種微爆粉碎法制備CeO₂超小介孔膜的方法是由邱鳴慧;周喚宇;金之豪;蔣曉蓮;陳獻(xiàn)富;范益群設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-06-12向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種微爆粉碎法制備CeO₂超小介孔膜的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及膜分離材料制備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種微爆粉碎法制備均勻孔徑的CeO2超小介孔膜的方法及其應(yīng)用，本發(fā)明將適量過剩的Ce4+填充在CeO2溶膠顆粒之間，在空氣氛圍下煅燒時(shí)，大量可揮發(fā)性物質(zhì)得到集中釋放，發(fā)生微爆現(xiàn)象，在限域空間內(nèi)瞬間產(chǎn)生高溫高壓，造成大溶膠顆粒瞬間粉碎，產(chǎn)生較小顆粒，且微爆產(chǎn)生的高能量促使Ce4+與O2結(jié)合形成CeO2顆粒填充于大孔隙中，同時(shí)顆粒堆積形成的限域空間可限制晶核生長，有效控制了新生成的CeO2尺寸，修復(fù)了由于CeO2溶膠顆粒大小不均勻形成的膜層缺陷，制備出完整穩(wěn)定、均勻孔徑的超小介孔膜層，且具有良好的重復(fù)性。

本發(fā)明授權(quán)一種微爆粉碎法制備CeO₂超小介孔膜的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種CeO2超小介孔膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： S1：以鈰鹽、沉淀劑、分散劑為原料制備CeO2溶膠，鈰鹽是硝酸鈰銨； S2：將CeO2溶膠與增稠劑混合配制CeO2制膜液，將制膜液通過浸漬提拉法在底膜上涂覆后干燥處理，得到干燥陶瓷膜； S3：對干燥陶瓷膜進(jìn)行煅燒處理，得到CeO2超小介孔膜； 所述步驟S1的CeO2溶膠中，Ce4+離子濃度為0.5-1.0gL，CeO2溶膠粒子濃度為7-12gL。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人南京工業(yè)大學(xué)，其通訊地址為：211816 江蘇省南京市江北新區(qū)浦珠南路30號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。