東方晶源微電子科技(北京)股份有限公司張生睿獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東方晶源微電子科技(北京)股份有限公司申請的專利一種掩模圖形確定方法、設備、介質及產品獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120255259B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510287626.3，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權一種掩模圖形確定方法、設備、介質及產品是由張生睿;俞宗強;施偉杰;姜鴻;王航宇;趙豐勝;龔炎彬設計研發完成，并于2025-03-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種掩模圖形確定方法、設備、介質及產品在說明書摘要公布了：本申請公開了一種掩模圖形確定方法、設備、介質及產品，應用于半導體技術領域。本方法中，刻蝕偏差由第一刻蝕圖形和第一光刻圖形確定，而第一刻蝕圖形基于第一子圖像和第二子圖像融合得到。第一子圖像由物理效應模擬單元基于第一光刻圖形生成，第二子圖像由神經網絡單元基于第一光刻圖形生成。其中，神經網絡單元能夠有效提升刻蝕模型對數據的擬合能力，進而提高刻蝕模型的準確性，以得到準確的第一刻蝕偏差。同時，刻蝕的物理效應模擬單元模擬了實際的物理效應，能夠防止刻蝕模型過擬合的情況發生。
本發明授權一種掩模圖形確定方法、設備、介質及產品在權利要求書中公布了：1.一種掩模圖形確定方法，其特征在于，包括： 基于第一目標刻蝕圖形，確定第一掩模圖形； 獲取所述第一掩模圖形經過光刻后的第一光刻圖形； 將所述第一光刻圖形輸入刻蝕模型的至少一個物理效應模擬單元，對應得到至少一個第一子圖像，以及將所述第一光刻圖形輸入所述刻蝕模型的神經網絡單元，得到第二子圖像；所述神經網絡單元基于光刻圖形樣本以及對應的刻蝕圖像標簽訓練得到； 基于所述刻蝕模型的融合單元對所述至少一個第一子圖像和所述第二子圖像進行融合，得到所述第一光刻圖形刻蝕后的第一刻蝕圖形，其中，基于所述刻蝕模型的融合單元對所述至少一個第一子圖像和所述第二子圖像進行求和處理，得到第一刻蝕圖像，從所述第一刻蝕圖像中提取出所述第一刻蝕圖形； 基于所述第一刻蝕圖形和所述第一光刻圖形，確定所述第一光刻圖形的第一刻蝕偏差； 基于所述第一刻蝕偏差以及所述第一目標刻蝕圖形，確定第一目標掩模圖形。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東方晶源微電子科技(北京)股份有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區北京經濟技術開發區經海四路156號院12號樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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