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龍圖騰網獲悉浙江大學申請的專利一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120445111B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510947733.4，技術領域涉及：G01B11/30；該發明授權一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法是由鄭澤培;王帥;段博崧;朱吳樂;孫安玉;居冰峰設計研發完成，并于2025-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法，屬于光學精密測量技術領域，該方法包括以下步驟：計算子孔徑數量和斜入射角度，確定子孔徑拼接路徑；移相激光干涉儀斜入射角度入射至被測平面，采集橢圓子孔徑區域的干涉條紋灰度圖像；利用移相干涉算法解算干涉條紋灰度圖像，獲得子孔徑的相位數據；根據確定的子孔徑拼接路徑移動被測平面，依次獲得各子孔徑的相位數據；對各子孔徑的相位數據進行拼接處理，生成被測平面整體的相位數據；將測量平面整體的相位數據還原被測平面的平面高度數據。該方法對拋光表面依賴性低、對干涉儀口徑依賴性低、測量正確率高、穩定性強。

本發明授權一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法在權利要求書中公布了：1.一種大尺寸低反射率平面高精度平面度測量方法，其特征在于，其包括以下步驟： S1.根據被測平面的尺寸和移相激光干涉儀的口徑，計算子孔徑數量和斜入射角度，同時確定子孔徑拼接路徑； S2.移相激光干涉儀的激光光束以計算所得的斜入射角度入射至被測平面，在激光光束被被測平面反射的路徑上擺放一面平面反射鏡，將激光光束反射回被測平面的同一個位置，最后返回移相激光干涉儀，采集橢圓子孔徑區域的干涉條紋灰度圖像； S3.利用移相干涉算法解算干涉條紋灰度圖像，獲得子孔徑的相位數據； S4.根據確定的子孔徑拼接路徑移動被測平面，按照S2至S3的方式依次獲得各子孔徑的相位數據； S5.對各子孔徑的相位數據進行拼接處理，生成被測平面整體的相位數據，具體步驟包括： S5.1.對子孔徑的相位數據的重疊區域，通過最小二乘法的全局優化算法補償斜率和高度位移誤差，得到每一個子孔徑的斜率補償函數； 最小二乘法的全局優化算法的計算公式為： ， 其中，V表示各子孔徑的斜率補償函數，i和j表示子孔徑的編號，N為子孔徑數量，Zi和Zj表示子孔徑i和子孔徑j的相位數據的重疊區域，x和y分別表示子孔徑在x軸和y軸上的坐標，x i 和y i 分別表示子孔徑i在x軸和y軸上的偏移量，x j 和y j 分別表示子孔徑j在x軸和y軸上的偏移量，a、b和c分別表示補償因子； S5.2.將各子孔徑相位數據減去對應的斜率補償函數，得到斜率統一的子孔徑相位數據； S5.3.將所有斜率統一的子孔徑相位數據相加，并將相位數據的重疊區域做平均化處理，生成被測平面整體的相位數據，計算公式為： ， 其中，M △φ 為被測平面整體的相位數據，M i 為斜率統一的子孔徑i的相位數據，N為子孔徑數量； S6.將被測平面整體的相位數據還原被測平面的平面高度數據，被測平面高度數據的計算公式為： ， 其中，M h 為被測平面的平面高度數據，M △φ 為被測平面整體的相位數據，θ為斜入射角度，λ 0為激光光束波長，n 0為干涉腔內介質的折射率。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江大學，其通訊地址為：310000 浙江省杭州市西湖區余杭塘路866號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。