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龍圖騰網(wǎng)獲悉ASML荷蘭有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利圖案形成裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113811816B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202080032591.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/00；該發(fā)明授權(quán)圖案形成裝置是由瑪麗亞-克萊爾·范拉爾;F·J·蒂默曼設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-04-02向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本圖案形成裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：一種被配置用于光刻設(shè)備的圖案形成裝置，所述光刻設(shè)備被配置為使用輻射經(jīng)由投影光學(xué)器件將所述圖案形成裝置的圖案成像到襯底上。所述圖案形成裝置包括：第一部件，用于反射和或透射所述輻射；以及第二部件，覆蓋所述第一部件的表面的至少部分，并且被配置為至少部分地吸收入射到所述第二部件上的所述輻射。所述第二部件包括側(cè)壁，其中所述側(cè)壁的至少部分以一角度從所述第一部件延伸離開(kāi)第一部分，所述角度是相對(duì)于平行于所述第一部件的所述表面的平面的，并且其中所述角度小于85度。

本發(fā)明授權(quán)圖案形成裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種被配置用于光刻設(shè)備的圖案形成裝置，所述光刻設(shè)備被配置為使用輻射經(jīng)由投影光學(xué)器件將所述圖案形成裝置的圖案成像到襯底上，所述圖案形成裝置包括： 第一部件，用于反射所述輻射，以及 第二部件，覆蓋所述第一部件的表面的至少部分以在所述圖案形成裝置提供圖案，并且被配置為至少部分地吸收入射到所述第二部件上的所述輻射， 其中所述第二部件包括側(cè)壁，其中所述側(cè)壁的至少一部分以一角度從所述第一部件延伸，所述角度是相對(duì)于平行于所述第一部件的所述表面的平面的，并且其中所述角度小于85度，以及 其中所述側(cè)壁具有曲線形狀； 其中在所述側(cè)壁的遠(yuǎn)離所述第一部件的最遠(yuǎn)點(diǎn)處，所述第二部件的遠(yuǎn)端的凸端部的形狀是正弦曲線的周期的一半或更少。

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