中微半導體設備(上海)股份有限公司謝林獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中微半導體設備(上海)股份有限公司申請的專利多區加熱裝置、下電極組件、等離子處理裝置及調溫方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114496693B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011253024.X,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權多區加熱裝置、下電極組件、等離子處理裝置及調溫方法是由謝林;杜杰設計研發完成,并于2020-11-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本多區加熱裝置、下電極組件、等離子處理裝置及調溫方法在說明書摘要公布了:一種多區加熱裝置、下電極組件、等離子處理裝置及調溫方法,其中,所述多區加熱裝置包括:多個加熱片;多個開關,每個開關連接一加熱片并形成一加熱單元;多個所述加熱單元的兩端分別連接一接地總線和一供電總線;多個控制信號線,每個控制信號線與一開關相連,用于輸送所述開關工作占空比的控制信號,所述開關分別根據所述控制信號獨立控制與之連接的所述加熱片的工作時間。所述多區加熱裝置能夠集成到等離子處理裝置中的靜電夾盤與基座之間,且能夠減少外接導電線以減少濾波器的需求。
本發明授權多區加熱裝置、下電極組件、等離子處理裝置及調溫方法在權利要求書中公布了:1.一種等離子處理裝置,其特征在于,包括:一等離子體反應腔,所述反應腔內設置有一下電極組件,所述下電極組件包括一基座和一靜電夾盤,所述基座和靜電夾盤之間設置一多區加熱裝置,所述下電極組件的多區加熱裝置用于對靜電夾盤承載的基片進行多區溫度調節; 所述多區加熱裝置,包括: 多個加熱片; 多個開關,每個開關連接一加熱片并形成一加熱單元; 多個所述加熱單元的兩端分別連接一接地總線和一供電總線; 多個驅動信號線,每個驅動信號線與一開關相連,用于輸送所述開關工作占空比的驅動信號,所述開關分別根據所述驅動信號獨立控制與之連接的所述加熱片的工作時間; 所述多區加熱裝置還包括多個驅動器,每個所述驅動器通過所述驅動信號線輸送所述驅動信號至所述開關,所述多區加熱裝置還包括一控制總線,所述多個驅動器連接到所述控制總線輸出的同一控制信號; 所述控制信號包括需要進行溫度調整的加熱單元坐標及調整幅度信息,所述多個驅動器用于識別并存儲所述控制總線傳輸的同一控制信號,并將需要進行調整的驅動信號輸送到對應的開關中; 所述基座下方還設置一設備板,所述驅動器位于所述基座和設備板之間; 所述接地總線和所述供電總線分別通過一個濾波器與非射頻環境相連,所述等離子處理裝置包括一控制器,所述控制器位于非射頻環境,所述控制器輸出的控制信號通過所述控制總線傳輸到所述驅動器,所述控制總線通過一個濾波器或者一光纖與所述位于非射頻環境的控制器相連接。
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