株式會社齒健池尻譽広獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社齒健申請的專利一種半導體二氧化鈦的制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116635151B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180088507.5,技術領域涉及:C01G23/047;該發明授權一種半導體二氧化鈦的制備方法是由池尻譽広;田中良汰;塚田晉也;遠藤歡一;古南博設計研發完成,并于2021-11-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種半導體二氧化鈦的制備方法在說明書摘要公布了:提供一種半導體二氧化鈦的制備方法,該方法不需要復雜的預處理,使用通用的設備就能夠簡單地制備半導體二氧化鈦。該方法包括:將含鈦基材在70~90℃的過氧化氫水溶液中浸泡1~28小時的第一浸泡工序;以及,第二浸泡工序;所述第二浸泡工序包括:將經過了所述第一浸泡工序的所述基材在10~30℃的常溫水中浸泡24~48小時的常溫水浸泡工序;以及,將經過了所述常溫水浸泡工序的所述基材在70~90℃的溫水中浸泡24~96小時的溫水浸泡工序。
本發明授權一種半導體二氧化鈦的制備方法在權利要求書中公布了:1.一種半導體二氧化鈦的制備方法,包括: 將含鈦基材在70~90℃的過氧化氫水溶液中浸泡1~28小時的第一浸泡工序;以及, 第二浸泡工序; 所述第二浸泡工序包括: 將經過了所述第一浸泡工序的所述基材在10~30℃的常溫水中浸泡24~48小時的常溫水浸泡工序;以及, 將經過了所述常溫水浸泡工序的所述基材在70~90℃的溫水中浸泡24~96小時的溫水浸泡工序; 其中,所述含鈦基材由鈦或鈦合金構成。
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