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龍圖騰網獲悉江西理工大學申請的專利一種提高CrAlN涂層耐磨抗腐蝕性能的后處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116043159B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310062457.4，技術領域涉及：C23C14/02；該發明授權一種提高CrAlN涂層耐磨抗腐蝕性能的后處理方法是由周升國;彭金勇;陳顥;張彤彤;肖錦設計研發完成，并于2023-01-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種提高CrAlN涂層耐磨抗腐蝕性能的后處理方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種耐磨抗腐蝕CrAlN涂層的循環熱處理方法，包括以下步驟：步驟S1：對基體材料進行預處理；步驟S2：對基體材料表面進行刻蝕，去除氧化層及雜質；步驟S3，在基體材料上沉積金屬Cr過渡層；步驟S4：在金屬Cr過渡層上沉積CrAlN涂層；步驟S5：對沉積CrAlN涂層的基體材料進行循環熱處理。本發明解決了現有普通CrAlN涂層無法在極端惡劣環境下使用的問題。

本發明授權一種提高CrAlN涂層耐磨抗腐蝕性能的后處理方法在權利要求書中公布了：1.一種提高CrAlN涂層耐磨抗腐蝕性能的后處理方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟S1：對基體材料進行預處理； 步驟S2：對基體材料表面進行刻蝕，去除氧化層及雜質； 步驟S3，在基體材料上沉積金屬Cr過渡層； 步驟S4：在金屬Cr過渡層上沉積CrAlN涂層； 步驟S5：對沉積CrAlN涂層的基體材料進行循環熱處理； 所述步驟S2具體為：將預處理后的基體材料置于多弧離子鍍沉積設備的腔體內，并進行抽真空處理，隨后在腔體內部通氬氣并保持在90~110sccm，分別選用-850~-950V、-1050~-1150V和-1151V~-1250V的沉積偏壓對基體材料表面進行刻蝕，去除氧化層及雜質； 所述步驟S3具體為：將已經去除氧化層及雜質的基體材料進行過渡層沉積，設置Cr靶電流為50~70A，基底偏壓-15~-25V，氬氣流量180~220sccm，沉積時間為8~12min，在基體材料上沉積上金屬Cr過渡層； 所述步驟S4具體為：利用多弧離子鍍沉積設備在已沉積金屬Cr過渡層的基體材料表面沉積CrAlN涂層，設置CrAl靶電流為55~65A，氬氣流量為180~220sccm，氮氣流量為500~700sccm，基底偏壓調至-20~-30V，沉積時間為110~130min，實現沉積單層CrAlN涂層，交替鍍制單層Cr涂層和單層CrAlN涂層，實現多層CrCrAlN涂層的制備； 所述步驟S5具體為：在大氣壓狀態下，CrAlN涂層先從常溫狀態逐步升溫至60℃，之后再降溫至低溫-20℃，整個過程中溫度誤差控制在±2℃，當熱循環次數達到5~7次后，停止溫度變化，在恒溫狀態下保溫10~14h；所述升溫速率為2℃min，降溫速率為1℃min；所有涂層的試驗環境濕度始終保持在80%，濕度偏差≤±2％R.H。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人江西理工大學，其通訊地址為：341000 江西省贛州市章貢區紅旗大道86號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。