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龍圖騰網獲悉北京工業大學申請的專利一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器及制作方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116345306B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310198072.0，技術領域涉及：H01S5/183；該發明授權一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器及制作方法是由解意洋;傅攀;徐晨;常鵬鷹;包蕾;吳博;裴憲梓設計研發完成，并于2023-03-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器及制作方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器及制作方法，涉及微納結構及半導體激光器技術領域，其結構主要包括歐姆接觸保護電極、周期交替生長的上分布布拉格反射鏡、電流限制氧化孔、氧化限制層；有源區、周期性交替生長的下分布布拉格反射鏡、GaAs襯底層、P型金屬電極層、鈍化層、BCB固化絕緣層、N型金屬電極層、出光孔和超構表面。本發明通過常規的半導體加工工藝，能夠容易地在垂直腔面發射激光器出光端面集成雙折射方形納米柱結構，在芯片級上實現矢量光束的生成與操控；所開發的方法為VCSEL平臺實現定制矢量光束鋪平了道路，解決了傳統的矢量光束生成裝置結構復雜，體積大、效率低、不易操作等問題。

本發明授權一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器及制作方法在權利要求書中公布了：1.一種片上生成矢量光束的垂直腔面發射激光器，其特征在于：包括周期性交替生長的下分布布拉格反射鏡（10）和上分布布拉格反射鏡（4），所述上分布布拉格反射鏡（4）與所述下分布布拉格反射鏡（10）構成一個凸字形圓臺結構； 所述下分布布拉格反射鏡（10）的底面設置有襯底層（11），所述襯底層（11）底面設置有超構表面（13）和N型金屬電極層（12），所述N型金屬電極層（12）位于所述超構表面（13）的外周；所述下分布布拉格反射鏡（10）的頂面覆蓋有有源區（9），所述有源區（9）與所述上分布布拉格反射鏡（4）之間設置有氧化限制層（6），所述氧化限制層（6）的中部設置有電流限制氧化孔（5）； 所述上分布布拉格反射鏡（4）的頂面從下到上依次設置有GaAs重摻雜層（3）和歐姆接觸保護電極（2）；所述歐姆接觸保護電極（2）的頂面，所述上分布布拉格反射鏡（4）的側面，以及所述有源區（9）的頂面均覆蓋有鈍化層（7），所述鈍化層（7）的外側設置有固化絕緣層（8），所述鈍化層（7）在所述歐姆接觸保護電極（2）的上方設置有電極孔（701），所述電極孔（701）中設置有P型金屬電極層（1），所述P型金屬電極層（1）外邊緣覆蓋所述鈍化層（7）的頂部； 所述P型金屬電極層（1）的中心與所述超構表面（13）的中心對準。

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