中國科學院光電技術研究所劉鑫獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院光電技術研究所申請的專利一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116661030B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310631736.8,技術領域涉及:G02B3/00;該發明授權一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法是由劉鑫;李敏;范斌;杜俊峰;邊疆;雷柏平;亓波;楊虎設計研發完成,并于2023-05-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法,該器件由兩層微透鏡陣列結構融合而成,且兩層陣列結構的周期、球冠直徑和矢高互不相同、坐標軸線按照一定的角度偏轉。本發明利用兩層微透鏡陣列結構的幾何尺寸互不相同、坐標軸線互有夾角的特點,并通過特殊的制備方法將雙層微米量級結構融合為一層兼具微米量級和納米量級的特殊結構,使星象圖案生成器件的特征線寬由掩膜圖形的微米量級降低到納米量級,衍射角度大大提升;且制備過程無需納米量級的加工技術,簡單易行、制作成本低。
本發明授權一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法在權利要求書中公布了:1.一種大衍射角星象圖案生成器件的制備方法,其特征在于:該器件由兩層微透鏡陣列結構融合而成,且兩層微透鏡陣列結構的周期、球冠直徑和矢高互不相同、坐標軸線之間具有一定角度;所述制備方法包含以下步驟: 步驟1、設計兩層微透鏡陣列結構的尺寸參數,兩者的周期、球冠直徑和矢高均不相同,并利用激光直寫技術制作第一掩模1和第二掩膜2; 步驟2、在石英基底3表面均勻涂覆一層光刻膠4; 步驟3、利用接觸式掩膜曝光技術將第一掩膜1的圖形復制到光刻膠4上,顯影后獲得第一光刻膠材料的圓柱體陣列41; 步驟4、利用光刻膠熱回流法對所述圓柱體陣列41進行烘烤,形成第一光刻膠材料的微透鏡陣列結構42; 步驟5、利用反應離子刻蝕技術將所述微透鏡陣列結構42轉移到石英基底3表面,獲得第一層石英材料的微透鏡陣列結構31; 步驟6、在所述第一層石英材料的微透鏡陣列結構31表面涂覆一層光刻膠4; 步驟7、利用接觸式掩膜曝光技術將第二掩膜2的圖形復制到所述微透鏡陣列結構31表面的光刻膠4上,曝光前將第二掩膜2進行一定角度的偏轉,使其與第一掩模1的坐標軸線之間形成一定的夾角,顯影后獲得第二光刻膠材料的類圓柱體陣列43; 步驟8、利用光刻膠熱回流法對所述類圓柱體陣列43進行烘烤,獲得第二光刻膠材料的類微透鏡陣列結構44; 步驟9、利用反應離子刻蝕技術將所述類微透鏡陣列結構45轉移到第一層石英材料的微透鏡陣列結構31表面,即可制備完成由雙層微透鏡陣列結構融合而成的雙層微透鏡陣列融合結構32。
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