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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利銅的光化學(xué)沉積方法以及在器件內(nèi)壁共形沉積銅圖案的方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN117966139B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202311775713.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C18/40；該發(fā)明授權(quán)銅的光化學(xué)沉積方法以及在器件內(nèi)壁共形沉積銅圖案的方法是由趙治;周羽潔;宋曉艷;王海濱設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-12-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本銅的光化學(xué)沉積方法以及在器件內(nèi)壁共形沉積銅圖案的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及功能材料與微納器件領(lǐng)域，公開了一種銅的光化學(xué)沉積方法以及在器件內(nèi)壁共形沉積銅圖案的方法。所述的方法包括：I?1分別將銅鹽、光還原劑、中性多齒配體與第一去離子水接觸，配制銅鹽母液、光還原劑母液和中性多齒配體母液；I?2將所述銅鹽母液、所述光還原劑母液、所述中性多齒配體母液和第二去離子水混合，配制前體溶液；I?3將所述前體溶液滴加到基底表面上，采用紫外光光照進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)，在所述基底表面上沉積銅膜。本發(fā)明利用光化學(xué)反應(yīng)而非常規(guī)催化反應(yīng)進(jìn)行液相金屬沉積，本發(fā)明的方法簡(jiǎn)單、可高效完成圖案化沉積與共形沉積、適用于復(fù)雜形狀基底和或器件內(nèi)壁。

本發(fā)明授權(quán)銅的光化學(xué)沉積方法以及在器件內(nèi)壁共形沉積銅圖案的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種在基底表面光化學(xué)沉積銅的方法，其特征在于，所述的方法包括： （I-1）分別將銅鹽、光還原劑、中性多齒配體與第一去離子水接觸，配制銅鹽母液、光還原劑母液和中性多齒配體母液； （I-2）將所述銅鹽母液、所述光還原劑母液、所述中性多齒配體母液和第二去離子水混合，配制前體溶液； （I-3）將所述前體溶液滴加到基底表面上，采用紫外光光照進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)，在所述基底表面上沉積銅膜； 其中，所述銅鹽選自氯化銅、硫酸銅和硝酸銅中的一種或多種； 所述光還原劑包括抗壞血酸鈉、酒石酸鈉和草酸鈉中的一種或多種； 所述中性多齒配體包括乙二胺、二乙烯三胺、五乙烯六胺、五甲基二乙烯三胺和1,1,4,7,10,10-六甲基三亞乙基四胺中的一種或多種； 所述銅鹽母液的濃度為0.1-10molL； 所述光還原劑母液的濃度為0.1-10molL； 所述中性多齒配體母液的濃度為0.1-10molL； 在步驟（I-2）和或步驟（II-2）中，相對(duì)于1000μL的所述銅鹽母液、所述光還原劑母液和所述中性多齒配體母液的總量，所述第二去離子水的用量為100-1000μL； 所述前體溶液中，銅離子的濃度為1-100mM； 所述前體溶液中，銅離子與所述光還原劑的濃度比為（0.1-2）：1；其中，所述前體溶液中，銅離子與所述中性多齒配體的濃度比為（0.2-10）：1。

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