魯東大學張云鳳獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉魯東大學申請的專利一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119962332B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510450019.4,技術領域涉及:G06F30/25;該發明授權一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法是由張云鳳;馬曉光設計研發完成,并于2025-04-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法在說明書摘要公布了:本發明涉及光學元件技術領域,尤其涉及一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法,首先獲取光學元件的物理參數(氧硅比、透射率、吸收系數)和激光輻照參數(波長、能量密度、重復頻率),接著,建立多環境損傷預測模型,映射環境參數與損傷閾值關系;構建氧硅比?透射率?損傷閾值關聯模型,分析物理參數隨激光發次演化;建立熱-光-力多物理場耦合模型,探究損傷機制,最終,通過這些模型預測不同發次激光輻照后光學元件的損傷閾值演化,得出損傷閾值變化趨勢曲線和臨界損傷點,建立了基于物理參數的損傷預測模型,實現了對光學元件損傷演化的提前預測,減少了實驗周期,提高了評估效率。
本發明授權一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法在權利要求書中公布了:1.一種基于激光輻照預測光學元件損傷演化的方法,其特征在于,包括: 獲取光學元件的物理參數和激光輻照參數,所述物理參數包括氧硅比、透射率和吸收系數,所述激光輻照參數包括波長、能量密度和重復頻率; 建立激光輻照損傷演化預測模型,包括: 基于所述物理參數和激光輻照參數,構建多環境損傷預測模型,所述多環境損傷預測模型包括環境參數與損傷閾值的映射關系; 基于所述物理參數,構建氧硅比-透射率-損傷閾值關聯模型,所述關聯模型表征物理參數隨激光發次的演化關系; 基于所述激光輻照參數,構建熱-光-力多物理場耦合模型,所述耦合模型表征多物理場相互作用下的損傷機制; 通過所述多環境損傷預測模型、所述關聯模型和所述耦合模型,預測不同發次激光輻照后光學元件的損傷閾值演化,預測結果包括損傷閾值隨發次變化的趨勢曲線和臨界損傷點; 所述氧硅比-透射率-損傷閾值關聯模型的構建具體包括: 建立亞表面氧硅比梯度預測模型,預測從表面至亞表面的氧硅比分布; 構建微觀結構-宏觀性能橋接系統,將微觀缺陷與宏觀光學性能關聯; 設計損傷閾值預測進階模型,預測公式為: , 其中,為N次脈沖后的損傷閾值,為單脈沖損傷閾值,N為脈沖發次,S為透射率參數,fT,P)為溫度壓力修正函數,gO:Si)為氧硅比影響函數,h(σ)為應力影響函數; 所述溫度壓力修正函數表示為: , 其中,T為實際溫度,為參考溫度,P為實際壓力,為參考壓力,α和β為材料相關常數; 所述氧硅比影響函數表示為: , 其中,O:Si為材料的氧硅比值,γ為材料相關常數; 所述應力影響函數表示為: , 其中,σ為光學元件內的應力,為參考應力,δ為材料相關常數。
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