中國人民解放軍國防科技大學胡廣艷獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國人民解放軍國防科技大學申請的專利聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒及制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120289684B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510792113.8，技術領域涉及：C08F112/08；該發明授權聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒及制備方法和應用是由胡廣艷;王飛雪;孫鵬躍;樓生強;馬鵬程;馬春江;鄧丁;劉建設計研發完成，并于2025-06-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒及制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明涉及納米材料合成與微流控反應器工程交叉技術領域，公開了一種聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒及制備方法和應用。聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒的制備方法，包括以下步驟：準備水相和油相；水相與油相以10：1的水油流速比注入微流控芯片，總流速為8mlmin?15mlmin；排出前段廢液；在70℃?90℃條件下進行乳液聚合反應，反應液經冷卻后離心處理，獲得聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒。在保證高單分散性和精準尺寸調控的同時，提升顆粒的結構規整性，并實現高通量生產，以滿足膠體光子晶體在顯示、傳感及柔性電子等領域的應用需求，以解決產物一致性差、材料性能差、生產效率低、成本高的技術問題。
本發明授權聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒及制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： S100、準備水相和油相； 步驟S100中的水相采用過硫酸鉀水溶液，水相中過硫酸鉀濃度為0.5gL–2.0gL； S200、水相與油相以10:1的水油流速比注入微流控芯片，總流速為8mlmin-15mlmin； 微流控芯片的通道寬度為50μm-200μm； S300、排出前段廢液； S400、在70℃-90℃條件下進行乳液聚合反應，反應液經冷卻后離心處理，獲得聚苯乙烯膠體光子晶體納米顆粒。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國人民解放軍國防科技大學，其通訊地址為：410073 湖南省長沙市開福區德雅路109號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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