杭州高譜成像技術(shù)有限公司曹義朋獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉杭州高譜成像技術(shù)有限公司申請的專利一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法及器件獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN120370539B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510846194.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02B26/00;該發(fā)明授權(quán)一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法及器件是由曹義朋;江曉欣;潘明忠;馬強設計研發(fā)完成,并于2025-06-24向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法及器件在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法及器件,包括:獲取理想電容值,基于理想電容值獲取驅(qū)動電壓;將驅(qū)動電壓施加在設置在FP腔外側(cè)上下圓形基板之間的環(huán)形壓電陶瓷塊上,環(huán)形壓電陶瓷塊形變使得上下圓形基板的間距變化;獲取分別設置在FP腔外側(cè)上下圓形基板上的至少一組環(huán)形支撐電容組的支撐電容值,以及連接環(huán)形支撐電容組的參考電容值,基于兩者反演得到實測電容值;基于理想電容值和實測電容值調(diào)節(jié)驅(qū)動電壓,進而調(diào)節(jié)上下圓形基板的間距,本方法通過對環(huán)形壓電陶瓷塊與環(huán)形支撐電容組進行特殊位置設置,以及調(diào)腔長的步驟設計,為后續(xù)性能提升奠定基礎,經(jīng)測試,在調(diào)腔長過程中,在保證高平坦度的同時精度更高。
本發(fā)明授權(quán)一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法及器件在權(quán)利要求書中公布了:1.一種高平坦度可調(diào)濾波器的腔長控制方法,其特征在于,包括: 步驟一:獲取待使用波長,將待使用波長轉(zhuǎn)換為理想電容值,基于理想電容值獲取驅(qū)動電壓; 步驟二:將驅(qū)動電壓施加在設置在FP腔外側(cè)上下圓形基板之間的環(huán)形壓電陶瓷塊上,環(huán)形壓電陶瓷塊形變使得上下圓形基板的間距變化; 步驟三:獲取分別設置在FP腔外側(cè)上下圓形基板上的至少一組環(huán)形支撐電容組的支撐電容值,以及連接環(huán)形支撐電容組的參考電容的參考電容值,基于兩者反演得到實測電容值; 步驟四:基于理想電容值和實測電容值調(diào)節(jié)驅(qū)動電壓,進而調(diào)節(jié)上下圓形基板的間距,從而調(diào)節(jié)FP腔內(nèi)連接在圓形基板上的圓形反射鏡的間距,實現(xiàn)FP腔的腔長控制, 高平坦度可調(diào)濾波器包括:圓形基板一(1)和圓形基板二(2),圓形基板一(1)和圓形基板二(2)上分別連接圓形反射鏡(3),圓形基板一(1)和圓形基板二(2)之間于圓形反射鏡(3)外圓周側(cè)連接有環(huán)形壓電陶瓷塊(4),圓形基板一(1)和圓形基板二(2)上于環(huán)形壓電陶瓷塊(4)外圓周側(cè)分別連接有環(huán)形支撐電容,形成環(huán)形支撐電容組,環(huán)形支撐電容組至少為一組,環(huán)形支撐電容組串聯(lián)參考電容,兩者的非串接端分別輸入相位相差180°的交流信號。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人杭州高譜成像技術(shù)有限公司,其通訊地址為:310000 浙江省杭州市西湖區(qū)轉(zhuǎn)塘街道轉(zhuǎn)塘科技經(jīng)濟區(qū)塊3號2幢5層503室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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