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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京懷柔實(shí)驗(yàn)室申請(qǐng)的專(zhuān)利用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)和外延生長(zhǎng)設(shè)備退火參數(shù)的校正方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120356841B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202510859698.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/66；該發(fā)明授權(quán)用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)和外延生長(zhǎng)設(shè)備退火參數(shù)的校正方法是由楊海峰;姚勇;李勇;李哲洋;于樂(lè);金銳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)和外延生長(zhǎng)設(shè)備退火參數(shù)的校正方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)和外延生長(zhǎng)設(shè)備退火參數(shù)的校正方法，晶圓結(jié)構(gòu)，包括呈陣列排布的多個(gè)晶圓單元，晶圓單元包括多個(gè)溝槽，多個(gè)溝槽分別為第一溝槽、第二溝槽和第三溝槽，各溝槽包括本體部和摻雜部，本體部具有凹槽，摻雜部位于本體部的底面上，第一溝槽位于晶圓單元的中心區(qū)域，多個(gè)第二溝槽沿遠(yuǎn)離第一溝槽的方向依次間隔地圍設(shè)于第一溝槽的外周，第三溝槽連接第一溝槽和多個(gè)第二溝槽，使得第一溝槽的摻雜部與第二溝槽的摻雜部相互接觸，溝槽的深寬比大于2。采用本申請(qǐng)中用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)解決了晶圓結(jié)構(gòu)不能體現(xiàn)外延生長(zhǎng)設(shè)備的反應(yīng)腔室中溫度分布的問(wèn)題。

本發(fā)明授權(quán)用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)和外延生長(zhǎng)設(shè)備退火參數(shù)的校正方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種用于測(cè)溫的晶圓結(jié)構(gòu)，包括呈陣列排布的多個(gè)晶圓單元，其特征在于，所述晶圓單元包括多個(gè)溝槽，多個(gè)所述溝槽分別為第一溝槽、第二溝槽和第三溝槽，各所述溝槽包括本體部和摻雜部，所述本體部具有凹槽，所述摻雜部位于所述本體部的底面上，所述第一溝槽位于所述晶圓單元的中心區(qū)域，多個(gè)所述第二溝槽沿遠(yuǎn)離所述第一溝槽的方向依次間隔地圍設(shè)于所述第一溝槽的外周，所述第三溝槽連接所述第一溝槽和多個(gè)所述第二溝槽，使得所述第一溝槽的摻雜部與所述第二溝槽的所述摻雜部相互接觸，所述溝槽的深寬比大于2，所述晶圓結(jié)構(gòu)還包括導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層與所述摻雜部接觸，部分所述導(dǎo)電層位于所述晶圓單元的第一表面上。

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