華中科技大學劉景鑫獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華中科技大學申請的專利在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116399467B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310254067.7,技術領域涉及:G01K7/36;該發明授權在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法是由劉景鑫;劉文中;黃鵬權;張芝慧設計研發完成,并于2023-03-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法,屬于納米材料測試技術領域。針對二維磁納米粒子成像裝置產生的復雜激勵磁場,提出了一種磁納米測溫方法。具體在利用復雜激勵信號導致磁納米粒子出現豐富的非線性磁化率同溫度之間的關系的同時,還考慮了實際二維MPI應用中,場強和粒子飽和磁化強度對測溫的影響,建立補償函數,并給出了粒子的主導弛豫機制為尼爾弛豫或主導弛豫機制為布朗弛豫的情況下的測溫模型,實現了在二維磁納米粒子成像裝置上的磁納米粒子實時溫度檢測,解決了當前磁納米粒子測溫方法無法在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下準確測溫的問題。
本發明授權在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法在權利要求書中公布了:1.一種在二維磁納米粒子成像裝置復雜激勵磁場下的測溫方法,其特征在于,包括: S1.將待測磁納米粒子放置在二維MPI成像裝置樣品腔中,檢測復雜激勵磁場下的磁納米粒子磁化響應信號;所述復雜激勵磁場是指非單一類型的磁場; S2.計算磁納米粒子的三次交流磁化率相位和五次交流磁化率相位; S3.在復雜激勵磁場下對粒子的磁化響應進行仿真,建立與場強和飽和磁化強度相關的補償函數,并聯立三次交流磁化率相位和五次交流磁化率相位同溫度之間的關系,構建測溫模型; S4.將步驟S2計算得到的三次交流磁化率相位、五次交流磁化率相位代入測溫模型,計算得到溫度; 當粒子表現為尼爾弛豫時,測溫模型為: K為各向異性常數,Vm為粒子核體積,kB為玻爾茲曼常數,T為溫度,G3,Nhmul,ms、G5,Nhmul,ms為補償函數,ms為粒子的飽和磁化強度,hmul為復雜激勵磁場中的多交變激勵磁場的場強比值,τ0為擴散弛豫時間;θ3為三次交流磁化率相位,θ5為五次交流磁化率相位;f3和f5分別為三次混合頻率和五次混合頻率; 當粒子表現為布朗弛豫時,構建的測溫模型為: η為粒子載液粘度,Vh為粒子水動力學體積,G3,Bhmul,ms、G5,Bhmul,ms為補償函數;ms為粒子的飽和磁化強度,hmul為復雜激勵磁場中的多交變激勵磁場的場強比值,T為溫度,kB為玻爾茲曼常數;θ3為三次交流磁化率相位,θ5為五次交流磁化率相位;f3和f5分別為三次混合頻率和五次混合頻率; 補償函數G3,Nhmul,ms、G3,Bhmul,ms的具體數值擬合過程為: 1根據Fokker-Plank方程計算在復雜激勵磁場下磁納米粒子的磁化響應; 2根據粒子的磁化響應,求取粒子的三次磁化率相位信息; 3改變復雜激勵磁場中多交變磁場的場強比值,但不改變粒子的飽和磁化強度,重復步驟1、2,得到對應的補償項數值; 4改變不同溫度下對應的粒子飽和磁化強度,但不改變復雜激勵磁場中多交變磁場的場強比值,重復步驟1、2,得到構建的模型中對應的補償項數值; 5對得到的多個離散補償項數值進行擬合,得到補償項擬合函數。
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